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公开(公告)号：CN104160487B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201380012381.9
申请日：2013-02-20
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 宫本公明
IPC: H01L21/3205 , B05D1/26 , H01L21/288 , H01L21/336 , H01L21/768 , H01L29/786
CPC classification number: B41J11/0015 , H01L27/1292 , H01L29/66742 , H01L29/78636
Abstract: 本发明涉及一种图案形成方法，该图案形成方法具有：第1工序，在具有显示防液性的凹部和显示亲液性的凸部的凹凸结构体上按照覆盖凹部和凸部的方式形成表面平坦的膜；和第2工序，使膜干燥从而形成图案。
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公开(公告)号：CN103153440A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180046282.3
申请日：2011-09-28
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C02F1/445 , B01D61/002 , B01D61/005 , B01D2311/2626 , C01B32/60 , C02F1/02 , C02F1/16 , C02F1/20 , C02F1/447 , C02F2103/08 , C02F2209/005 , C02F2209/02 , C02F2303/16 , C07C211/00 , Y02A20/131 , Y02W10/37
Abstract: 为了改进渗透装置，本发明提供的正向渗透装置具有：稀释单元，在所述稀释单元中原料溶液和包含离子化的阳离子源和离子化的阴离子源的汲取溶液经由半透膜接触，并通过使用借助所述半透膜从所述原料溶液分离的水来稀释所述原料溶液；分离单元，在所述分离单元中将通过稀释单元稀释的所述汲取溶液分离成水以及所述阳离子源和阴离子源；和溶解单元，在所述溶解单元中使通过所述分离单元分离出的所述阳离子源和阴离子源返回至被稀释的汲取溶液并使所述阳离子源和阴离子源溶解在该汲取溶液中。所述正向渗透装置的特征在于，在作为不带电体的状态下所述阴离子源和所述阳离子源的分子量各自为31以上，并且在标准状态下的亨利常数为1.0×104(Pa/mol·分数)以上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104145325B
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：CN201380012373.4
申请日：2013-02-13
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 宫本公明
IPC: H01L21/3205 , H01L21/288 , H01L21/336 , H01L21/768 , H01L29/786
CPC classification number: H01L21/0337 , H01L27/1292 , H01L29/45 , H01L29/4908 , H01L29/78636 , H01L29/78681 , H01L29/7869 , H05K3/1208 , H05K2203/1173
Abstract: 在微细图案的图案形成方法中，具有：第1工序，针对在基板上形成的具有亲疏液性转换功能的防液性的第1膜，使形成第1图案的第1图案形成区域变为亲液性，使膜厚减少；第2工序，在第1膜上形成表面平坦的第2膜；和第3工序，使第2膜干燥，从而在第1图案形成区域形成第1图案。
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公开(公告)号：CN104160487A
公开(公告)日：2014-11-19
申请号：CN201380012381.9
申请日：2013-02-20
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 宫本公明
IPC: H01L21/3205 , B05D1/26 , H01L21/288 , H01L21/336 , H01L21/768 , H01L29/786
CPC classification number: B41J11/0015 , H01L27/1292 , H01L29/66742 , H01L29/78636
Abstract: 本发明涉及一种图案形成方法，该图案形成方法具有：第1工序，在具有显示防液性的凹部和显示亲液性的凸部的凹凸结构体上按照覆盖凹部和凸部的方式形成表面平坦的膜；和第2工序，使膜干燥从而形成图案。
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公开(公告)号：CN103153440B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201180046282.3
申请日：2011-09-28
Applicant: 富士胶片株式会社
CPC classification number: C02F1/445 , B01D61/002 , B01D61/005 , B01D2311/2626 , C01B32/60 , C02F1/02 , C02F1/16 , C02F1/20 , C02F1/447 , C02F2103/08 , C02F2209/005 , C02F2209/02 , C02F2303/16 , C07C211/00 , Y02A20/131 , Y02W10/37
Abstract: 为了改进渗透装置，本发明提供的正向渗透装置具有：稀释单元，在所述稀释单元中原料溶液和包含离子化的阳离子源和离子化的阴离子源的汲取溶液经由半透膜接触，并通过使用借助所述半透膜从所述原料溶液分离的水来稀释所述原料溶液；分离单元，在所述分离单元中将通过稀释单元稀释的所述汲取溶液分离成水以及所述阳离子源和阴离子源；和溶解单元，在所述溶解单元中使通过所述分离单元分离出的所述阳离子源和阴离子源返回至被稀释的汲取溶液并使所述阳离子源和阴离子源溶解在该汲取溶液中。所述正向渗透装置的特征在于，在作为不带电体的状态下所述阴离子源和所述阳离子源的分子量各自为31以上，并且在标准状态下的亨利常数为1.0×104(Pa/mol·分数)以上。
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公开(公告)号：CN104145325A
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：CN201380012373.4
申请日：2013-02-13
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 宫本公明
IPC: H01L21/3205 , H01L21/288 , H01L21/336 , H01L21/768 , H01L29/786
CPC classification number: H01L21/0337 , H01L27/1292 , H01L29/45 , H01L29/4908 , H01L29/78636 , H01L29/78681 , H01L29/7869 , H05K3/1208 , H05K2203/1173
Abstract: 在微细图案的图案形成方法中，具有：第1工序，针对在基板上形成的具有亲疏液性转换功能的防液性的第1膜，使形成第1图案的第1图案形成区域变为亲液性，使膜厚减少；第2工序，在第1膜上形成表面平坦的第2膜；和第3工序，使第2膜干燥，从而在第1图案形成区域形成第1图案。
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公开(公告)号：CN102300627A
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200980155837.0
申请日：2009-12-17
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: B01D69/06 , B01D61/18 , B01D63/14 , B01D71/36 , B29C55/02 , B29K27/18 , B29K105/04 , B29L7/00 , B29L31/14
CPC classification number: B29C55/005 , B01D61/147 , B01D63/14 , B01D67/0027 , B01D67/0088 , B01D67/009 , B01D67/0093 , B01D71/36 , B01D2323/02 , B01D2323/08 , B01D2323/345 , B01D2323/42 , B01D2325/022 , B29B13/023 , B29C43/22 , B29C55/04 , B29C55/12 , B29K2027/18 , B29K2105/04 , Y10T428/249978
Abstract: 本发明提供了制备结晶聚合物微孔膜的方法，它包括在等于或高于结晶聚合物的焙烧产物的熔点的温度下，经加热单元非对称地加热由所述结晶聚合物组成并经固定的薄膜，使得所述薄膜的一个表面在与所述加热单元接触的同时受热，以形成在由结晶聚合物组成的所述薄膜的厚度方向具有温度梯度的半烧制薄膜；和拉伸所述半烧制薄膜。
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