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公开(公告)号:CN119278220A
公开(公告)日:2025-01-07
申请号:CN202380043014.9
申请日:2023-06-16
Applicant: 富士胶片株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够形成在暴露于高温高湿环境下的前后相对介电常数的变化小且褶皱少的薄膜的聚合物、组合物、复合压电体、压电薄膜及压电元件。本发明的聚合物包含由式(A)表示的重复单元及由式(B)表示的重复单元,其中,由式(A)表示的重复单元的含量相对于聚合物的所有重复单元为60摩尔%以上,由式(B)表示的重复单元的含量相对于聚合物的所有重复单元为1~40摩尔%,聚合物不包含由式(C)表示的重复单元,或者在聚合物包含由式(C)表示的重复单元的情况下,由式(C)表示的重复单元的含量相对于聚合物的所有重复单元为5摩尔%以下。#imgabs0#