公开(公告)号：CN117545544A

公开(公告)日：2024-02-09

申请号：CN202280044834.5

申请日：2022-06-14

Applicant: 富士胶片制造欧洲有限公司 ,  富士胶片株式会社

Inventor： S·A·斯塔罗斯京 ,  E·A·M·弗米尔 ,  伊丹雄二郎

IPC: B01D67/00

Abstract: 一种气体分离膜，其包括以下的层：(i)支撑体层；(ii)缓冲层；(iii)辨别层；(iv)可选的氟化聚合物层；以及(v)可选的保护层；其中，(a)所述缓冲层(ii)和所述辨别层(iii)各自独立地包含式(1)的基团：M‑(O‑)x式(1)其中：各个M独立地为金属或类金属原子；O为氧原子；并且各个x的值独立地至少为4；(b)所述缓冲层(ii)包含含有4至10原子％的式(1)的基团的M的表面，其中M如上述定义；(c)所述辨别层(iii)包含含有大于10原子％的式(1)的基团的M的表面，其中M如上述定义；并且(d)层(ii)位于层(i)与(iii)之间。

公开(公告)号：CN118946400A

公开(公告)日：2024-11-12

申请号：CN202380030412.7

申请日：2023-03-21

Applicant: 富士胶片制造欧洲有限公司 ,  富士胶片株式会社

Inventor： S·A·斯塔罗斯京 ,  E·A·M·弗米尔

IPC: B01D71/70 ,  B01D67/00 ,  B01D69/12 ,  B01D71/02 ,  B01D53/22 ,  B01D71/64

Abstract: 一种气体分离膜，其包括以下层：(i)支撑体层；(ii)辨别层；(iii)附加层，其中，所述附加层包含式(1)的基团：M‑(O‑)x式(1)其中，各个M独立地为金属或类金属原子；O是氧原子；并且各个x的值独立地至少为4；以及(iv)任选的保护层；其中，(a)所述支撑体层(i)和所述附加层(iii)位于所述辨别层(ii)的相反侧上；并且(b)所述附加层(iii)包含1.5原子％至10原子％的式(1)基团的M，其中，M如上文所定义。

公开(公告)号：CN118946398A

公开(公告)日：2024-11-12

申请号：CN202380030342.5

申请日：2023-03-21

Applicant: 富士胶片制造欧洲有限公司 ,  富士胶片株式会社

Inventor： S·A·斯塔罗斯京 ,  E·A·M·弗米尔

IPC: B01D67/00 ,  B01D53/22 ,  B01D69/12 ,  B01D71/70 ,  B01D71/02 ,  B01D71/64

Abstract: 一种气体分离膜，其包括以下层：(i)任选的支撑体层；(ii)辨别层；(iii)附加层；和(iv)任选的保护层；其中，(a)所述附加层(iii)和所述辨别层(ii)各自独立地包含式(1)的基团：M‑(O‑)x式(1)其中，各个M独立地为金属或类金属原子；O是氧原子；并且各个x的值独立地至少为4；(b)所述附加层(iii)包含1.5至10原子％的式(1)基团的M，其中，M如上述定义；并且(c)所述辨别层(ii)包含大于10原子％的式(1)基团的M，其中，M如上述定义。