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发明公开
研磨垫、其制造方法及研磨加工物的制造方法、以及抛光垫、其制造方法及抛光加工物的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN116568734A

公开(公告)日：2023-08-08

申请号：CN202180078379.6

申请日：2021-12-24

Applicant: 富士纺控股株式会社

Inventor： 河野哲也

IPC: C08J5/14

Abstract: 本发明提供能够对被研磨物赋予良好的平坦性、并且与浆料的亲和性优异的研磨垫等。即，提供研磨垫等，所述研磨垫具备具有细孔的树脂片材，在通过设定接触角为130°、汞表面张力为485dyn/cm的压汞法测得的前述树脂片材的细孔分布中，0.010μm以上1.0μm以下的细孔直径的范围内的累积细孔容积V为0.21cm3/g以上1.00cm3/g以下，前述树脂片材的密度为0.3g/cm3以上0.9g/cm3以下。

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