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公开(公告)号:CN102009545B
公开(公告)日:2014-06-25
申请号:CN201010132333.1
申请日:2010-03-10
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G03G9/00
CPC classification number: G03G15/06 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供一种记录介质和图像形成装置,所述图像形成装置产生所述记录介质,所述记录介质包含:由第一记录材料形成的第一图像;和包括第一区域和第二区域的第二图像,所述第一区域由耐光性与所述第一记录材料大致相同的第二记录材料形成,所述第二区域由耐光性比所述第一记录材料高的第三记录材料形成,所述第二区域的颜色是所述第一区域褪色过程的任一阶段所对应的颜色。
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公开(公告)号:CN101526764B
公开(公告)日:2012-07-04
申请号:CN200810185875.8
申请日:2008-12-18
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G03G9/0912 , G03G9/0914 , G03G9/0924
Abstract: 本发明涉及一种成像材料,其包含下式(I)所示的萘嵌间二氮杂苯系方酸鎓染料,所述的式(I)为:
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公开(公告)号:CN101685252A
公开(公告)日:2010-03-31
申请号:CN200910127326.X
申请日:2009-03-10
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: C09B57/007 , C09D11/328 , G03G9/0906 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明提供一种成像材料,所述成像材料包含由下式(I)表示的萘嵌间二氮杂苯类方酸染料。其中,式(I)中,R表示氢原子或甲基。
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公开(公告)号:CN101544843A
公开(公告)日:2009-09-30
申请号:CN200810185874.3
申请日:2008-12-18
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: C09B57/007 , C09B67/0025
Abstract: 本发明涉及一种着色剂,其包含右式(1)所示的化合物的晶体,所述的晶体具有这样的晶形:在用CuKα辐射得到的粉末X射线衍射谱中,分别在晶面间距d为3.45±0.5(埃)、3.63±0.5、4.23± 0.5、6.65±0.5和7.84±0.5的位置处显示出主峰。
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公开(公告)号:CN101544843B
公开(公告)日:2013-05-01
申请号:CN200810185874.3
申请日:2008-12-18
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: C09B57/007 , C09B67/0025
Abstract: 本发明涉及一种着色剂,其包含下式(1)所示的化合物的晶体,所述的晶体具有这样的晶形:在用CuKα辐射得到的粉末X射线衍射谱中,分别在晶面间距d为3.45±0.5(埃)、3.63±0.54.23±0.56.65±0.5和7.84±0.5的位置处显示出主峰。
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公开(公告)号:CN101685252B
公开(公告)日:2012-07-25
申请号:CN200910127326.X
申请日:2009-03-10
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: C09B57/007 , C09D11/328 , G03G9/0906 , Y10T428/2982
Abstract: 本发明提供一种成像材料,所述成像材料包含由下式(I)表示的萘嵌间二氮杂苯类方酸染料,其中,式(I)中,R表示氢原子或甲基。
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公开(公告)号:CN102009545A
公开(公告)日:2011-04-13
申请号:CN201010132333.1
申请日:2010-03-10
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: B42D15/00
CPC classification number: G03G15/06 , Y10T428/24802
Abstract: 本发明提供一种记录介质和图像形成装置,所述图像形成装置产生所述记录介质,所述记录介质包含:由第一记录材料形成的第一图像;和包括第一区域和第二区域的第二图像,所述第一区域由耐光性与所述第一记录材料大致相同的第二记录材料形成,所述第二区域由耐光性比所述第一记录材料高的第三记录材料形成,所述第二区域的颜色是所述第一区域褪色过程的任一阶段所对应的颜色。
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公开(公告)号:CN101526764A
公开(公告)日:2009-09-09
申请号:CN200810185875.8
申请日:2008-12-18
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: G03G9/0912 , G03G9/0914 , G03G9/0924
Abstract: 本发明涉及一种成像材料,其包含式(I)所示的萘嵌间二氮杂苯系方酸鎓染料。
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