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公开(公告)号：CN1467512A
公开(公告)日：2004-01-14
申请号：CN03109377.9
申请日：2003-04-08
Applicant: 富士全录株式会社
CPC classification number: B82Y20/00 , C09D5/44 , C09D5/448 , C25D1/12 , C25D1/22 , C25D5/08 , C25D5/54 , C25D13/00 , G02F1/065 , G02F2202/36
Abstract: 于薄膜的面内、膜厚方向，可容易保持机能性材料的连续浓度阶调的一种光学元件制作方法，及其使用的电沉积液与制造装置。关于使用含有机能性材料的电沉积液，利用光电沉积法或电沉积，于光学元件制作基板上制作光学元件的方法。含有于光学元件制作基板近旁，通过使电沉积液中的机能性材料的浓度变化，含于其中的机能性材料在薄膜厚方向与/或薄膜的面内方向，有浓度阶调的薄膜制作步骤的光学元件制作方法。设置有通过变化pH值，使对于水性溶液的溶解性与分散性降低、有疏水性基与亲水性基，疏水性基的数量为亲水性基与疏水性基总量的30％到80％的范围，含有形成薄膜的高分子材料与机能性材料的电沉积液，以及电沉积或光电沉积的薄膜形成装置，设置有为了使对光学元件制作基板形成电沉积液的流动的液流形成机构的光学元件制造装置。
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公开(公告)号：CN1241039C
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：CN03130898.8
申请日：2003-05-21
Applicant: 富士全录株式会社
CPC classification number: G02B6/138 , B29D11/00663 , G02B2006/12069 , G02B2006/121
Abstract: 一种高分子光导波管制造方法，包括(1)将一铸型成形用的树脂材料层形成于已形成光导波管凸部的原盘上后，剥离而取出模型。接着，将模型两端切断，使形成于模型的光导波管凸部所对应的凹部暴露出来，以制作出铸型。(2)将做为包覆层且与该铸型密合性良好的包覆用膜基材紧密黏着至上述的铸型。(3)接着，将让包覆用膜基材紧密黏着的铸型的一端，与做为核心的紫外线硬化性树脂或热硬化性树脂接触，并且通过毛细现象，使紫外线硬化性树脂或热硬化性树脂进入上述铸型的凹部。(4)使上述填入的紫外线硬化性树脂或热硬化性树脂硬化，与使铸型从包覆用膜基材剥离。(5)在核已形成的包覆用膜基材上，形成包覆层。因此可以利用简单的方法，以低成本制造高分子光导波管。
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公开(公告)号：CN1467515A
公开(公告)日：2004-01-14
申请号：CN03130898.8
申请日：2003-05-21
Applicant: 富士全录株式会社
CPC classification number: G02B6/138 , B29D11/00663 , G02B2006/12069 , G02B2006/121
Abstract: 一种高分子光导波管制造方法，包括(1)将一铸型成形用的树脂材料层形成于已形成光导波管凸部的原盘上后，剥离而取出模型。接着，将模型两端切断，使形成于模型的光导波管凸部所对应的凹部暴露出来，以制作出铸型。(2)将做为包覆层且与该铸型密合性良好的包覆用膜基材紧密黏着至上述的铸型。(3)接着，将让包覆用膜基材紧密黏着的铸型的一端，与做为核心的紫外线硬化性树脂或热硬化性树脂接触，并且通过毛细现象，使紫外线硬化性树脂或热硬化性树脂进入上述铸型的凹部。(4)使上述填入的紫外线硬化性树脂或热硬化性树脂硬化，与使铸型从包覆用膜基材剥离。(5)在核已形成的包覆用膜基材上，形成包覆层。因此可以利用简单的方法，以低成本制造高分子光导波管。
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