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公开(公告)号:CN101803133A
公开(公告)日:2010-08-11
申请号:CN200880106365.5
申请日:2008-09-11
Applicant: 宾奥普迪克斯股份有限公司
IPC: H01S3/10
CPC classification number: H01S5/12 , H01S5/028 , H01S5/1021 , H01S5/1039 , H01S5/18 , H01S5/4025
Abstract: 半导体芯片具有至少两个DFB刻蚀端面激光腔,其中一组端面具有AR涂层,第二组刻蚀端面具有HR涂层,从而相对于光栅具有不同的相对位置。这可在每一个刻蚀端面和光栅之间产生相位差,光栅改变两个激光腔的工作特性,使得至少一个激光器提供可接受的性能。因此,两腔设置极大地提高了芯片制造的成品率。
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公开(公告)号:CN101803133B
公开(公告)日:2013-02-27
申请号:CN200880106365.5
申请日:2008-09-11
Applicant: 宾奥普迪克斯股份有限公司
IPC: H01S3/10
CPC classification number: H01S5/12 , H01S5/028 , H01S5/1021 , H01S5/1039 , H01S5/18 , H01S5/4025
Abstract: 半导体芯片具有至少两个DFB刻蚀端面激光腔,其中一组端面具有AR涂层,第二组刻蚀端面具有HR涂层,从而相对于光栅具有不同的相对位置。这可在每一个刻蚀端面和光栅之间产生相位差,光栅改变两个激光腔的工作特性,使得至少一个激光器提供可接受的性能。因此,两腔设置极大地提高了芯片制造的成品率。
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