高均匀性铬镍奥氏体不锈钢光谱校正样品的制备方法

    公开(公告)号:CN100585380C

    公开(公告)日:2010-01-27

    申请号:CN200710037666.4

    申请日:2007-02-16

    Abstract: 本发明公开了高均匀性铬镍奥氏体不锈钢光谱校正样品的制备方法,以提供可靠的光谱校正样品。其包括如下步骤:1)校正样品的成分质量百分比为:C≤0.20、Si≤1.0、Mn≤2.0、P≤0.035、S≤0.030、Cr 16~24、Ni 6~14、余量为铁;2)按上述成分冶炼、铸造成钢锭;3)锻造,开锻温度:1100℃~1150℃,终锻温度:900℃~950℃;4)轧制,开轧温度:1100℃~1150℃,终轧温度:900℃~950℃;5)热处理,固溶温度1000℃~1050℃,保温时间40~50min,然后浸入式水冷。本发明校正样品块内晶粒度大于7级、残留铁素体呈弥散分布的均匀的奥氏体组织,满足光谱分析的要求,使光谱测定得到最好的分析精度。

    一种火花源发射光谱分析用钢铁的低端校正样品

    公开(公告)号:CN100520368C

    公开(公告)日:2009-07-29

    申请号:CN200610026269.2

    申请日:2006-04-29

    Abstract: 一种火花源发射光谱分析用钢铁的低端校正样品,用于钢铁成分分析专用光谱仪的日常校准,其成分重量百分比为:C:0.30~0.35;Si:0.005~0.010;Mn:0.005~0.010;P:0.001~0.003;S:0.0010~0.0020;Cr:0.005~0.01;Mo:0.005~0.01;Ni:0.005~0.010;Al:0.002~0.004;As:0.002~0.004;B:0.0005~0.0010;Cu:0.005~0.010;Sn:0.002~0.005;Ti:0.0005~0.0010;V:0.0015~0.0030;还包括铁和不可避免的杂质。使校正时的相对误差控制在10%以内,同时由于该样品中有较高的碳含量,从而其在研磨条件下有高的耐磨性。

    高均匀性铬镍奥氏体不锈钢光谱校正样品的制备方法

    公开(公告)号:CN101246120A

    公开(公告)日:2008-08-20

    申请号:CN200710037666.4

    申请日:2007-02-16

    Abstract: 本发明公开了高均匀性铬镍奥氏体不锈钢光谱校正样品的制备方法,以提供可靠的光谱校正样品。其包括如下步骤:1)校正样品的成分质量百分比为:C≤0.20、Si≤1.0、Mn≤2.0、P≤0.035、S≤0.030、Cr 16~24、Ni 6~14、余量为铁;2)按上述成分冶炼、铸造成钢锭;3)锻造,开锻温度:1100℃~1150℃,终锻温度:900℃~950℃;4)轧制,开轧温度:1100℃~1150℃,终轧温度:900℃~950℃;5)热处理,固溶温度1000℃~1050℃,保温时间40~50min,然后浸入式水冷。本发明校正样品块内晶粒度大于7级、残留铁素体呈弥散分布的均匀的奥氏体组织,满足光谱分析的要求,使光谱测定得到最好的分析精度。

    一种火花源发射光谱分析用钢铁的低端校正样品

    公开(公告)号:CN101063658A

    公开(公告)日:2007-10-31

    申请号:CN200610026269.2

    申请日:2006-04-29

    Abstract: 一种火花源发射光谱分析用钢铁的低端校正样品,用于钢铁成分分析专用光谱仪的日常校准,其成分重量百分比为:C:0.30~0.35;Si:0.005~0.010;Mn:0.005~0.010;P:0.001~0.003;S:0.0010~0.0020;Cr:0.005~0.01;Mo:0.005~0.01;Ni:0.005~0.010;Al:0.002~0.004;As:0.002~0.004;B:0.0005~0.0010;Cu:0.005~0.010;Sn:0.002~0.005;Ti:0.0005~0.0010;V:0.0015~0.0030;其余为铁和不可避免杂质。使校正时的相对误差控制在10%以内,同时由于该样品中有较高的碳含量,从而其在研磨条件下有高的耐磨性。

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