公开(公告)号：CN103857826B

公开(公告)日：2016-06-29

申请号：CN201280050036.X

申请日：2012-08-22

Applicant: 安美特德国有限公司

Inventor： I-R.希尔泽科恩 ,  J.韦格里希特 ,  A.基利安

IPC: C23C18/44

CPC classification number: C23C18/44 ,  C23C18/1637

Abstract: 本发明涉及用于无电沉积钯和/或钯合金的含水镀浴组合物，和利用这些含水镀浴组合物的方法。含水镀浴包含钯离子源、还原剂、不含磷的氮化络合剂及包含1至5个膦酸酯残基的至少一种有机稳定剂。如果含水镀浴包含铜离子，所述含水镀浴和方法特别有用。

公开(公告)号：CN103857826A

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN201280050036.X

申请日：2012-08-22

Applicant: 安美特德国有限公司

Inventor： I-R.希尔泽科恩 ,  J.韦格里希特 ,  A.基利安

IPC: C23C18/44

CPC classification number: C23C18/44 ,  C23C18/1637

Abstract: 本发明涉及用于无电沉积钯和/或钯合金的含水镀浴组合物，和利用这些含水镀浴组合物的方法。含水镀浴包含钯离子源、还原剂、不含磷的氮化络合剂及包含1至5个膦酸酯残基的至少一种有机稳定剂。如果含水镀浴包含铜离子，所述含水镀浴和方法特别有用。