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公开(公告)号:CN1306241C
公开(公告)日:2007-03-21
申请号:CN200410011523.2
申请日:2004-12-31
Applicant: 安捷伦科技有限公司
Inventor: 威廉·克莱·施卢赫特尔 , 路易斯·F·米勒 , 道格拉斯·P·伍尔韦尔托 , 杰弗里·A·扬 , 艾伦·B·雷 , 戴维·C·楚
CPC classification number: G03F7/70775
Abstract: 本发明公开了用于获取可移动装置相对于特定轴的位置信息的系统和方法。在一个实施例中,干涉仪产生第一光束和第二光束,并且放置各种光束指引部件以定义这两条光束的光束路径片断,但是光束路径片断的长度并没有随可移动装置沿特定轴的位移而一致性地变化。在另一实施例或同一实施例中,第一光束的或射到可移动装置或已从可移动装置反射回的每个光束路径片断对称于第二光束的相应光束路径片断。可移动装置可以是晶片台,其中“特定轴”是投影透镜的曝光轴,但是所有与台协同工作的光学部件都位于晶片台在垂直于光刻曝光轴的方向上的范围之外。
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公开(公告)号:CN1657865A
公开(公告)日:2005-08-24
申请号:CN200410011523.2
申请日:2004-12-31
Applicant: 安捷伦科技有限公司
Inventor: 威廉·克莱·施卢赫特尔 , 路易斯·F·米勒 , 道格拉斯·P·伍尔韦尔托 , 杰弗里·A·扬 , 艾伦·B·雷 , 戴维·C·楚
CPC classification number: G03F7/70775
Abstract: 本发明公开了用于获取可移动装置相对于特定轴的位置信息的系统和方法。在一个实施例中,干涉仪产生第一光束和第二光束,并且放置各种光束指引部件以定义这两条光束的光束路径片断,但是光束路径片断的长度并没有随可移动装置沿特定轴的位移而一致性地变化。在另一实施例或同一实施例中,第一光束的或射到可移动装置或已从可移动装置反射回的每个光束路径片断对称于第二光束的相应光束路径片断。可移动装置可以是晶片台,其中“特定轴”是投影透镜的曝光轴,但是所有与台协同工作的光学部件都位于晶片台在垂直于光刻曝光轴的方向上的范围之外。
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