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公开(公告)号:CN119060363A
公开(公告)日:2024-12-03
申请号:CN202411562207.8
申请日:2024-11-05
Applicant: 安徽科技学院
IPC: C08J3/03 , C09D195/00 , C09D7/61 , C08L95/00 , C09D125/14
Abstract: 一种低粘乳化沥青,原料包括:沥青45‑55份、乳化剂1.0‑2.5份、稳定剂0.1‑1.2份、水45‑55份。制备方法:乳化剂溶于水中,搅拌后加入稳定剂溶解得到皂液;预热胶体磨,加入皂液,启动胶体磨,以800‑900g/min的速率将预热120‑140℃的沥青加入到皂液中,加料完成后继续混合1‑2min,得到乳化沥青,最后置于真空脱泡桶中,真空脱泡4‑5min,得到乳化沥青成品。与现有技术相比,本发明提供的乳化沥青粘度低,筛上剩余物少,体系稳定性好。本发明提供的低粘乳化沥青制得的防水涂料固含量高,其耐酸碱性、耐候性均有明显提升。
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公开(公告)号:CN108949333A
公开(公告)日:2018-12-07
申请号:CN201810487886.5
申请日:2018-05-21
Applicant: 安徽科技学院
IPC: C10M173/02 , C10N30/06 , C10N30/04
CPC classification number: C10M173/02 , C10M2201/103 , C10M2207/022 , C10M2207/126 , C10M2209/104 , C10M2209/12 , C10N2230/04 , C10N2230/06
Abstract: 本发明公开的一种水基润滑剂,其特征在于,由以下重量百分比原料制备而成的:蒙脱土10%~60%,硬脂酸钠2%~8%,硬脂酸锌0%~5%,增稠剂0.1%~5%,季戊四醇0%~10%,聚乙二醇0%~10%,防腐剂0.5%~1.5%,水余量。本发明的目的为解决水基石墨润滑剂难清洗、污染重的问题,并改善无石墨润滑剂摩擦系数高的问题,提供一种分散均匀、喷涂容易、易清洗无污染的环保型水基润滑剂。
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公开(公告)号:CN109002682B
公开(公告)日:2021-08-10
申请号:CN201810521438.2
申请日:2018-05-28
Applicant: 安徽科技学院
Abstract: 本发明公开了一种AlH3在磷烯表面稳定存储的方法,结合第一性原理的密度泛函理论(DFT)和分子动力学模拟方法,分析了低元AlH3基团在磷烯表面的吸附结构、姿态、数量以及近常温下吸附结构的稳定性,归纳总结出一种分析AlH3在磷烯表面吸附机理的方法,为分析AlH3在二维材料表面的存储提供了理论指导。本发明通过分析AlH3基团在磷烯表面的吸附结构及吸附能发现AlH3基团在磷烯表面以三元团簇结构的形式吸附到磷烯表面;通过电子性质分析得出三元团簇的AlH3基团与磷烯之间的相互作用为物理吸附;通过分子动力学模拟分析得出近室温条件下磷烯对三元团簇的AlH3基团仍然有很好的存储能力。
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公开(公告)号:CN109002682A
公开(公告)日:2018-12-14
申请号:CN201810521438.2
申请日:2018-05-28
Applicant: 安徽科技学院
IPC: G06F19/00
Abstract: 本发明结合第一性原理的密度泛函理论(DFT)和分子动力学模拟方法,分析了低元AlH3基团在磷烯表面的吸附结构、姿态、数量以及近常温下吸附结构的稳定性,归纳总结出一种分析AlH3在磷烯表面吸附机理的方法,为分析AlH3在二维材料表面的存储提供了理论指导。本发明通过分析AlH3基团在磷烯表面的吸附结构及吸附能发现AlH3基团在磷烯表面以三元团簇结构的形式吸附到磷烯表面;通过电子性质分析得出三元团簇的AlH3基团与磷烯之间的相互作用为物理吸附;通过分子动力学模拟分析得出近室温条件下磷烯对三元团簇的AlH3基团仍然有很好的存储能力。
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公开(公告)号:CN108517253A
公开(公告)日:2018-09-11
申请号:CN201810459559.9
申请日:2018-05-15
Applicant: 安徽科技学院
IPC: C10M173/02 , C10N50/10 , C10N30/06 , C10N30/12
Abstract: 本发明公开了一种水基润滑膏及其制备方法,该润滑膏是由以下重量份原料组成:硬脂酸钠4-6份,硬脂酸锌1-3份,石墨微粉1-4份,乙二醇,5-10份,季戊四醇,5-8份,硅油5-8份,三乙醇胺3-5份,蒸馏水100-120份,苯甲酸钠0.5-1份亚硝酸钠1-1.5份。本发明的有益效果是具有低软化点,低摩擦系数,抗冲击性和渗透性,减摩性能好,能有效防止器械受损,并且具有优异的抗腐蚀、防锈性能,保证设备在高强度环境下正常工作。
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