公开(公告)号：CN119932532A

公开(公告)日：2025-05-06

申请号：CN202411938988.6

申请日：2024-12-26

Applicant: 安徽矽美新材料有限公司

Inventor： 郑小勇 ,  林仲珉 ,  胡斌 ,  卢群

IPC: C23C16/455 ,  C23C16/442 ,  C23C16/24 ,  C01B33/035

Abstract: 本发明提供了气体分布器及其应用，本申请的气体分布器，包括分布器主体，所述分布器主体具有一内凹的曲面，所述曲面的中心设置有气流开口二，所述气流开口二的外侧设置有气流开口一，所述气流开口二以分布器主体的径向布置，所述气流开口一与曲面呈切角式布置；所述曲面中设置有可旋转的桨叶，所述桨叶与曲面之间具有间隙。本申请的气体分布器可以帮助直立式化学气相沉积反应器以化学气相沉积(CVD)方式，来处理粒径为50纳米至30微米的多微孔的碳支架颗粒，或其它类似的碳或非碳材料的微颗粒，在这类微颗粒的表面和微孔内表面沉积硅或其它单质或陶瓷或金属或非金属材料；这类含多微孔的支架颗粒的微孔内径可以小于2纳米。

公开(公告)号：CN119956316A

公开(公告)日：2025-05-09

申请号：CN202411938993.7

申请日：2024-12-26

Applicant: 安徽矽美新材料有限公司

Inventor： 郑小勇 ,  林仲珉 ,  张森 ,  胡斌 ,  卢群 ,  苏润琦

IPC: C23C16/24 ,  C23C16/442 ,  C23C16/455 ,  C23C16/26 ,  C01B32/05 ,  C01B33/035

Abstract: 本发明提供了使反应器达到反应设定条件，所述反应设定条件至少包括反应腔处于设定温度并维持温度稳定；在反应器内已经输入多孔碳支架材料时，使载体气体与含硅前驱体混合形成反应气体由底部的输入接口输入反应腔；维持反应直至反应结束。本申请采用直立式CVI反应器在执行化学气相渗透反应时，反应器内反应温度分布、多微孔的多孔碳支架颗粒温度、和前驱体反应气体/载体气体的温度均是非常均匀和稳定；更重要的是，同时也是非常难得，本申请采用直立式CVI反应器执行化学气相渗透反应时不须任何额外的外力辅助，即可确保反应温度的均匀和颗粒中化学气相渗透反应的均匀性与完全，尤其是能完成2～10μm的多孔碳支架颗粒的化学气相渗透和碳包覆工作。

公开(公告)号：CN119956325A

公开(公告)日：2025-05-09

申请号：CN202411938992.2

申请日：2024-12-26

Applicant: 安徽矽美新材料有限公司

Inventor： 郑小勇 ,  林仲珉 ,  张森 ,  胡斌 ,  卢群 ,  苏润琦

IPC: C23C16/442 ,  C23C16/26 ,  C23C16/44 ,  C23C16/04 ,  C23C16/52 ,  C23C16/448 ,  C23C16/46

Abstract: 本发明提供了化学气相渗透反应器，包括一直立式壳体；所述壳体内设置为反应腔，所述壳体的底部设置两个或以上的输入接口与反应腔相连通；所述壳体的顶部设置有进料口和排气口；所述壳体的外部设置有为反应腔加热的加热区，且所述加热区至少包括一组若干个独立设置加热温度的加热装置和一组若干个同步设置加热温度的加热装置；若干个独立设置加热温度的加热装置和若干个同步设置加热温度的加热装置在壳体的不同高度上对反应腔加热，所述输入接口在反应腔内形成向上的气流以平衡进料口输入的颗粒重力使颗粒悬浮。