一种可相变的纳米片状VO2薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN115323361A

    公开(公告)日:2022-11-11

    申请号:CN202210821195.0

    申请日:2022-07-12

    Abstract: 本发明公开了一种可相变的纳米片状VO2薄膜的制备方法,采用低温液相沉积法合并氮气气氛热处理制备纳米片状VO2薄膜,其技术特征如下:以一定的摩尔比配制硫酸氧钒和乳酸的混合溶液,于室温下搅拌使其充分络合,使用氨水调节络合溶液的pH值在3.2~4.4范围,之后放入表面洁净的玻璃等基板,沉积反应温度控制在60℃~90℃范围,沉积反应一定时间后即获得的纳米片状前驱体薄膜;所得前驱体薄膜在一定氮气流速下,于一定温度下退火后即得纳米片状VO2薄膜。本发明提供了一种反应温度低、基底要求低、能耗低、可大面积成膜的纳米片状VO2薄膜制备方法。

    一种可相变的纳米片状VO2薄膜的制备方法

    公开(公告)号:CN115323361B

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202210821195.0

    申请日:2022-07-12

    Abstract: 本发明公开了一种可相变的纳米片状VO2薄膜的制备方法,采用低温液相沉积法合并氮气气氛热处理制备纳米片状VO2薄膜,其技术特征如下:以一定的摩尔比配制硫酸氧钒和乳酸的混合溶液,于室温下搅拌使其充分络合,使用氨水调节络合溶液的pH值在3.2~4.4范围,之后放入表面洁净的玻璃等基板,沉积反应温度控制在60℃~90℃范围,沉积反应一定时间后即获得的纳米片状前驱体薄膜;所得前驱体薄膜在一定氮气流速下,于一定温度下退火后即得纳米片状VO2薄膜。本发明提供了一种反应温度低、基底要求低、能耗低、可大面积成膜的纳米片状VO2薄膜制备方法。

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