一种增强超薄钴酸镍薄膜的居里温度的方法

    公开(公告)号:CN119980141A

    公开(公告)日:2025-05-13

    申请号:CN202411891213.8

    申请日:2024-12-20

    Applicant: 安徽大学

    Abstract: 本发明公开了一种增强超薄钴酸镍薄膜的居里温度的方法,涉及新型功能材料加工技术领域,包括以下步骤:S1、通过陶瓷烧结工艺制备NiCo2O4靶材和Co3O4靶材;S2、通过磁控溅射的方法在MgAl2O4(001)单晶衬底上沉积NiCo2O4/Co3O4薄膜;S3、测量生长的NiCo2O4/Co3O4薄膜的反常霍尔效应;其技术要点为:能够克服传统氧化物硬磁材料的局限性,通过采用射频磁控溅射的制备工艺,采用NiCo2O4和Co3O4靶材,制备出NiCo2O4/Co3O4薄膜,所得薄膜具有380K的居里温度,并且具有优秀的导电性,具有良好的使用前景。

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