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公开(公告)号：CN111458986A
公开(公告)日：2020-07-28
申请号：CN202010319602.9
申请日：2020-04-22
Applicant: 安徽大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及接触式曝光光刻设备技术领域，提供一种倒置接触式光学曝光光刻设备及曝光方法，能够达到出光均匀且效率高、基板高度可调、曝光时间可控的实验效果，并降低了对光刻版磨损，包括水平设置的基板，所述基板的下端边缘通过多个可拆卸式安装的杆架连接有光学平台，光学平台上设有电源、紫外光源装置和时间继电器；所述紫外光源装置与电源、时间继电器通过导线相连接；所述基板的顶端中部开设有自上而下依次向内收缩的放置槽；所述光学平台水平设置，用于保持光刻设备水平放置并固定光刻设备的位置；所述时间继电器用于根据不同条件控制曝光时间。本发明可根据不同条件调节基板高度和曝光时间，达到需要的实验效果。
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