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公开(公告)号：CN104070691A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201410122803.4
申请日：2014-03-28
Applicant: 宇部兴产株式会社
CPC classification number: B29C71/02 , B29C31/08 , B29C35/045 , B29C2071/022 , B29K2079/08 , B29L2007/008
Abstract: 本发明提供一种薄膜的制造方法及制造设备，其能够以良好的成品率制造对热的尺寸稳定性优异的薄膜。其是进行薄膜的应力衰减处理的薄膜的制造方法，使用从气体喷射孔对薄膜喷出加热气体来以非接触状态输送薄膜的浮置输送装置（1），在以非接触状态输送薄膜的同时进行应力衰减处理。尤其适合于对聚酰亚胺薄膜的前驱体进行加热处理而得到的聚酰亚胺薄膜的应力衰减处理。
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公开(公告)号：CN104070691B
公开(公告)日：2017-12-29
申请号：CN201410122803.4
申请日：2014-03-28
Applicant: 宇部兴产株式会社
CPC classification number: B29C71/02 , B29C31/08 , B29C35/045 , B29C2071/022 , B29K2079/08 , B29L2007/008
Abstract: 本发明提供一种薄膜的制造方法及制造设备，其能够以良好的成品率制造对热的尺寸稳定性优异的薄膜。其是进行薄膜的应力衰减处理的薄膜的制造方法，使用从气体喷射孔对薄膜喷出加热气体来以非接触状态输送薄膜的浮置输送装置（1），在以非接触状态输送薄膜的同时进行应力衰减处理。尤其适合于对聚酰亚胺薄膜的前驱体进行加热处理而得到的聚酰亚胺薄膜的应力衰减处理。
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公开(公告)号：CN203766039U
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201420148256.2
申请日：2014-03-28
Applicant: 宇部兴产株式会社
CPC classification number: B29C71/02 , B29C31/08 , B29C35/045 , B29C2071/022 , B29K2079/08 , B29L2007/008
Abstract: 本实用新型提供一种薄膜的制造设备，其能够以良好的成品率制造对热的尺寸稳定性优异的薄膜。其是进行薄膜的应力衰减处理的薄膜的制造设备，使用从气体喷射孔对薄膜喷出加热气体来以非接触状态输送薄膜的浮置输送装置（1），在以非接触状态输送薄膜的同时进行应力衰减处理。尤其适合于对聚酰亚胺薄膜的前驱体进行加热处理而得到的聚酰亚胺薄膜的应力衰减处理。
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