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公开(公告)号:CN1444569A
公开(公告)日:2003-09-24
申请号:CN01812348.1
申请日:2001-07-04
Applicant: 宇部兴产株式会社
IPC: C07D263/56 , C07D413/04 , C07D413/12 , C07D413/14 , C07D417/12 , C07D417/14 , A01N43/76 , C07B61/00
CPC classification number: C07D417/12 , A01N43/76 , A01N43/78 , A01N43/80 , A01N43/82 , C07D263/56 , C07D413/04 , C07D413/12 , C07D413/14 , C07D417/14
Abstract: 本发明涉及由下列通式(I)代表的苯并噁唑化合物,其中R1-R4可以相同或不同且各自代表氢、C1-6烷基、C1-4烷氧基等;A代表单键、CHR5-Y、CR5=CR6、CR5R7-CHR6或CHR5(其中R5代表氢、羟基、卤代或烷基;R6和R7各自代表氢、羟基、烷基、卤代或取代的磺酰氧基;且Y代表氧、硫或NH);且W代表(未)取代的苯环或杂环。
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公开(公告)号:CN1349515A
公开(公告)日:2002-05-15
申请号:CN00806954.9
申请日:2000-04-27
Applicant: 宇部兴产株式会社
IPC: C07D263/56 , C07C235/24 , A01N43/76
CPC classification number: C07D263/56 , A01N43/76 , C07C235/24
Abstract: 本发明提供了以右式(1)表示的苯并噁唑化合物、其制备方法以及以含其为有效成分的除草剂,式中,R1~R4表示氢原子、C1~6烷基、C1~4烷氧基、C1~4卤代烷基、C1~4卤代烷氧基、卤原子、硝基、氰基等;R5表示C1~4卤代烷基、C1~4卤代烷氧基、卤原子、硝基、氰基等;R6表示氢原子、卤原子、氰基、硝基等;R7表示氢原子、C1~6烷基、C1~4卤代烷基等;X表示氧、硫、SO或SO2。
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公开(公告)号:CN1167689C
公开(公告)日:2004-09-22
申请号:CN00806954.9
申请日:2000-04-27
Applicant: 宇部兴产株式会社
IPC: C07D263/56 , C07C235/24 , A01N43/76
CPC classification number: C07D263/56 , A01N43/76 , C07C235/24
Abstract: 本发明提供了以下式(1)表示的苯并噁唑化合物、其制备方法以及以含其为有效成分的除草剂:式中,R1~R4表示氢原子、C1~6烷基、C1~4烷氧基、C1~4卤代烷基、C1~1卤代烷氧基、卤原子、硝基、氰基等;R5表示C1~1卤代烷基、C1~1卤代烷氧基、卤原子、硝基、氰基等;R6表示氢原子、卤原子、氰基、硝基等;R7表示氢原子、C1~6烷基、C1~4卤代烷基等;X表示氧、硫、SO或SO2。
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