一种粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN114043794B

    公开(公告)日:2023-10-03

    申请号:CN202111353066.5

    申请日:2021-11-16

    Abstract: 本发明提供了一种粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜及其制备方法。所述聚酯基膜由表面层(A层)/中间层(B层)/表面层(A层)通过三层共挤出铸片后,经纵向拉伸、横向拉伸、热定型制成。所述A层包含90~99份的聚酯和1~10份的第一有机抗粘连粒子,所述B层包含99~100份的聚酯和0.1~1份的第二有机抗粘连粒子。本发明提供的粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜具有更加光滑的表面,通过改变A层中抗粘连粒子的含量达到不同表面粗糙度的要求,同时改变B层中抗粘连粒子的含量能在不降低透光率的条件下对雾度等光学性能进行调整。本发明提供的粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜可以满足光学胶离型膜、片式多层陶瓷电容器离型膜等多种高端薄膜的性能需求。

    一种粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN114043794A

    公开(公告)日:2022-02-15

    申请号:CN202111353066.5

    申请日:2021-11-16

    Abstract: 本发明提供了一种粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜及其制备方法。所述聚酯基膜由表面层(A层)/中间层(B层)/表面层(A层)通过三层共挤出铸片后,经纵向拉伸、横向拉伸、热定型制成。所述A层包含90~99份的聚酯和1~10份的第一有机抗粘连粒子,所述B层包含99~100份的聚酯和0.1~1份的第二有机抗粘连粒子。本发明提供的粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜具有更加光滑的表面,通过改变A层中抗粘连粒子的含量达到不同表面粗糙度的要求,同时改变B层中抗粘连粒子的含量能在不降低透光率的条件下对雾度等光学性能进行调整。本发明提供的粗糙度及光学性能可调的聚酯基膜可以满足光学胶离型膜、片式多层陶瓷电容器离型膜等多种高端薄膜的性能需求。

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