一种CuBi2O4薄膜电极的制备方法及其应用

    公开(公告)号:CN119433580A

    公开(公告)日:2025-02-14

    申请号:CN202411575851.9

    申请日:2024-11-06

    Inventor: 汪颖 张浩

    Abstract: 本发明公开了一种CuBi2O4薄膜电极的制备方法及其应用,属于薄膜材料领域。述的CuBi2O4薄膜电极制备方法为:将0.05mol/L~0.2mol/L乙酸铜和0.05mol/L~0.2mol/L乙酸钠的水溶液混合得到电解质Ⅰ,在FTO上采用电沉积法得到Cu2O薄膜;向0.05mol/L~0.3mol/L硝酸铋溶液中加入配位剂、KOH以及熔盐KNO3或加水稀释得到溶液Ⅱ;将得到的Cu2O薄膜在溶液Ⅱ中提拉浸渍后,进行退火处理,后用去离子水冲洗,干燥后即得到CuBi2O4薄膜电极。本发明通过调控乙酸铜和乙酸钠的浓度比例,得到表面均匀致密性好的Cu2O,并在此基础上优化配位剂、矿化剂以及熔盐的浓度,制备出高质量的CuBi2O4薄膜电极。

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