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发明公开
自立膜、层叠片以及自立膜的制造方法审中-实审

公开(公告)号：CN118266073A

公开(公告)日：2024-06-28

申请号：CN202280074052.6

申请日：2022-11-10

Applicant: 学校法人早稻田大学

Inventor： 野田优 , 宗像濑文

IPC: H01L23/36 , H01L23/373 , B22F3/11 , B22F1/05 , B22F1/148

Abstract: 本发明提供一种表现出低电阻、低热阻、高力学强度且耐热性和柔软性优异的、能够以低成本批量生产的自立膜、层叠片以及自立膜的制造方法。自立膜(1)具有由金属粒子(2)的聚集体(3)和空隙(4)构成的多孔质结构。自立膜(1)的制造方法包括：在10Torr以上且300Torr以下的惰性气体中使金属蒸发，生成由金属构成的金属粒子(2)，使金属粒子(2)沉积在基材上，在基材上形成具有由金属粒子(2)的聚集体(3)和空隙(4)构成的多孔质结构的自立膜前体，以及从基材剥离自立膜前体。层叠片包括：具有由金属粒子(2)的聚集体(3)和空隙(4)构成的多孔质结构的自立膜(1)；以及载体基材。

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