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公开(公告)号：CN116360062B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN202310635128.4
申请日：2023-05-31
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于光学系统技术领域，公开了一种可调节光学镜座，包括支座、主镜座、万向铰接件、弹性支持杆和两根调节螺杆；主镜座的正面设置有反射镜，背面通过万向铰接件与支座铰接；两根调节螺杆和弹性支持杆呈三角形排布地设置支座上，万向铰接件设置在三角形内；调节螺杆的末端与主镜座的背面连接并用于调节主镜座的角度；弹性支持杆的末端与主镜座的背面相抵并用于向主镜座提供弹性支反力；万向铰接件包括球窝件、球头件和锁定件，球头件插入球窝件并与球窝件转动连接，锁定件用于锁定球窝件和球头件的相对位置；从而结构简单，可实现反射镜的全角度自由调节，提高装调效率，且调节后能够有效锁定反射镜的角度。
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公开(公告)号：CN119439334A
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202411643033.8
申请日：2024-11-18
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及光学元件领域，本发明公开了一种双面反射镜及其优化方法，双面反射镜包括上下两面的镜体，两面所述镜体的结构对称，所述镜体的正面设置有反射面，所述镜体的背面设置有轻量化孔，所述轻量化孔内设有板筋，两面所述镜体的背部拼接贴合为一体，本申请将双面反射镜拆分为上下两面的镜体，对任一镜体的背面均设置轻量化孔，后续再将两面镜体的背部拼接贴合为一体，实现双面反射镜中单面镜体的背部轻量化。
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公开(公告)号：CN119260484A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411787884.X
申请日：2024-12-06
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本发明涉及抛光设备领域，公开了一种磁流变抛光机，包括：储液箱；加工机构，其包括第一抛光组件与第一喷液组件，第一抛光组件具有可沿三维方向活动的第一抛光轮与第一磁场发生器，第一喷液组件包括第一输送泵、第一分散器、第一喷嘴与第一收集器，第一分散器的输入端通过管路连接于储液箱，第一分散器的输出端通过管路连接于第一喷嘴的输入端，第一喷嘴的输出端朝向第一抛光轮的底部一侧，第一输送泵设置于储液箱与第一分散器的管路上，第一收集器位于第一抛光轮的底部另一侧，第一分散器内设置有第一挡流板，本发明有效减轻第一输送泵产生的脉动现象，有效提高磁流变抛光的加工精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116579183A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310767010.7
申请日：2023-06-27
Applicant: 季华实验室
IPC: G06F30/20 , G06F119/14
Abstract: 本申请属于反射镜加工的技术领域，公开了一种反射镜加工分析方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取反射镜的第一结构数据、辅助支撑环的第二结构数据，构建对应的反射镜模型和支撑环模型，根据预设的极限抗压阈值，调整反射镜模型的刀具加工力矩，确定反射镜的加工应力，通过辅助支撑方法，基于反射镜模型和支撑环模型，结合预设的共振频率范围，计算得到反射镜的镜面频率及对应的辅助支撑环的厚度，汇总反射镜的加工应力、反射镜的镜面频率和辅助支撑环的厚度，生成反射镜的加工分析结果数据，通过反射镜的加工应力和镜面频率以及辅助支撑环的厚度，对反射镜的加工进行分析，提高了反射镜的加工效率。
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公开(公告)号：CN116360062A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202310635128.4
申请日：2023-05-31
Applicant: 季华实验室
Abstract: 本申请属于光学系统技术领域，公开了一种可调节光学镜座，包括支座、主镜座、万向铰接件、弹性支持杆和两根调节螺杆；主镜座的正面设置有反射镜，背面通过万向铰接件与支座铰接；两根调节螺杆和弹性支持杆呈三角形排布地设置支座上，万向铰接件设置在三角形内；调节螺杆的末端与主镜座的背面连接并用于调节主镜座的角度；弹性支持杆的末端与主镜座的背面相抵并用于向主镜座提供弹性支反力；万向铰接件包括球窝件、球头件和锁定件，球头件插入球窝件并与球窝件转动连接，锁定件用于锁定球窝件和球头件的相对位置；从而结构简单，可实现反射镜的全角度自由调节，提高装调效率，且调节后能够有效锁定反射镜的角度。
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公开(公告)号：CN119260528A
公开(公告)日：2025-01-07
申请号：CN202411787887.3
申请日：2024-12-06
Applicant: 季华实验室
IPC: B24B13/005 , B24B1/00 , B24B13/00 , B24B41/00
Abstract: 本发明涉及光学镜片加工技术领域，特别是一种夹持装置、离子束修形设备及加工方法，其包括底座和夹持组件，所述底座上设有安装工位，所述安装工位用于放置待将加工的镜片，所述底座上设有导轨，所述导轨设置多个，所述导轨沿所述安装工位的中心径向设置，所述夹持组件设置多个，每个所述夹持组件一一对应地设置在所述导轨上，所述夹持组件包括滑块、伸缩单元、旋转单元和支撑板，所述滑块与所述导轨滑动连接，所述伸缩单元的固定部与所述滑块固定连接，所述旋转单元设置在所述伸缩单元的伸缩部上，所述支撑板设置在所述旋转单元的旋转部上。避免了夹持装置对工件表面产生遮挡影响最终加工精度的问题，能够保证离子束修形的加工精度。
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公开(公告)号：CN119238225A
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202411770004.8
申请日：2024-12-04
Applicant: 季华实验室
IPC: B24B1/00 , B24B13/00 , B24B13/005 , B24B55/00
Abstract: 本发明涉及离子束抛光设备技术领域，特别是一种离子束抛光装置，其包括真空箱、第一抛光机构、第二抛光机构和夹持机构，真空箱内设有安装空间，第二抛光机构与第一抛光机构对称设置在安装空间中，所述夹持机构包括夹紧组件和固定组件，固定组件设置在真空箱的内底面，夹紧组件包括两个升降套筒、两个伸缩杆和两个夹具，升降套筒与固定组件滑动连接使得升降套筒上下调节，伸缩杆连接升降套筒和夹具，夹具用于固定透镜。本发明可以在一个真空环境中完成透镜的双面抛光作业，减少了翻转透镜和重新抽真空的次数，从而显著提高了抛光效率，夹紧组件和固定组件互相配合，确保了整个夹紧过程的稳定性和可重复性。
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公开(公告)号：CN116579183B
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202310767010.7
申请日：2023-06-27
Applicant: 季华实验室
IPC: G06F30/20 , G06F119/14
Abstract: 本申请属于反射镜加工的技术领域，公开了一种反射镜加工分析方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取反射镜的第一结构数据、辅助支撑环的第二结构数据，构建对应的反射镜模型和支撑环模型，根据预设的极限抗压阈值，调整反射镜模型的刀具加工力矩，确定反射镜的加工应力，通过辅助支撑方法，基于反射镜模型和支撑环模型，结合预设的共振频率范围，计算得到反射镜的镜面频率及对应的辅助支撑环的厚度，汇总反射镜的加工应力、反射镜的镜面频率和辅助支撑环的厚度，生成反射镜的加工分析结果数据，通过反射镜的加工应力和镜面频率以及辅助支撑环的厚度，对反射镜的加工进行分析，提高了反射镜的加工效率。
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