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公开(公告)号:CN117262711A
公开(公告)日:2023-12-22
申请号:CN202311173371.5
申请日:2023-09-12
Applicant: 季华实验室
IPC: B65G47/90
Abstract: 本发明涉及搬运领域,其公开一种掩膜版支撑装置及掩膜版搬运装置,包括支架、左滑移机构、右滑移机构、左支撑组件和右支撑组件,所述左支撑组件设置在所述左滑移机构上,所述右支撑组件设置在所述右滑移机构上,所述左滑移机构带动所述左滑移组件沿左右方向往复运动,所述右滑移机构带动所述右滑移组件沿左右方向往复运动,所述左支撑组件用于支撑掩膜版的左侧底面,所述右滑移组件用于支撑掩膜版的右侧底面。本发明可确保掩膜版搬运后充分展平。
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公开(公告)号:CN117471867A
公开(公告)日:2024-01-30
申请号:CN202311547639.7
申请日:2023-11-20
Applicant: 季华实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及显示器加工领域,其公开一种曝光设备,包括机架、支撑架、支撑组件、掩膜版和投影装置,支撑架设置在机架上,支撑架的中部设有透光孔,支撑组件设置在支撑架上,支撑组件位于透光孔中,支撑组件分隔透光孔形成沿左右依次排布的第一透光孔和第二透光孔,掩膜版设置在支撑架的上,支撑架和支撑组件均用于支撑掩膜版,投影装置设置在机架上,投影装置设置在第一透光孔和第二透光孔的下方,掩膜版上设置第一掩膜图形和第二掩膜图形,第一掩膜图形和第二掩膜图形分别设置在第一透光孔和第二透光孔的上方,投影装置用于把经过第一透光孔和第二透光孔的光的成像拼接到一起。
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