公开(公告)号：CN108863887A

公开(公告)日：2018-11-23

申请号：CN201710778125.0

申请日：2017-09-01

Applicant: 奥加诺株式会社

Inventor： 寺师亮辅 ,  山田响介 ,  日比聪

IPC: C07D207/267

CPC classification number: B01D19/00 ,  B01D53/22 ,  B01D61/00 ,  B01D61/14 ,  B01D61/36 ,  B01D61/58 ,  B01D71/02 ,  C01B39/14 ,  C01B39/24 ,  C01B39/26 ,  C01B39/30 ,  C07D207/267

Abstract: 本发明提供了N‑甲基‑2‑吡咯烷酮水溶液的纯化系统及纯化方法。本发明的课题是在NMP水溶液的纯化系统(1)中抑制NMP的过氧化物的生成。NMP水溶液的纯化系统(1)具有从NMP水溶液中将水除去而生成NMP浓缩液的渗透汽化膜装置(201)、设置在渗透汽化膜装置(201)的上游或下游并储存有NMP水溶液或NMP浓缩液的容器(101)、(103)、(106)、(301)、和将容器(101)、(103)、(106)、(301)的气相部用惰性气体填充的惰性气体供给机构(L401)、(L402)、(L403)、(L404)、(L405)、(U402)、(U403)、(U404)、(U405)。

公开(公告)号：CN207632732U

公开(公告)日：2018-07-20

申请号：CN201721120448.2

申请日：2017-09-01

Applicant: 奥加诺株式会社

Inventor： 寺师亮辅 ,  山田响介 ,  日比聪

IPC: C07D207/267

Abstract: 本实用新型提供了N-甲基-2-吡咯烷酮水溶液的纯化系统。本实用新型的课题是在NMP水溶液的纯化系统(1)中抑制NMP的过氧化物的生成。NMP水溶液的纯化系统(1)具有从NMP水溶液中将水除去而生成NMP浓缩液的渗透汽化膜装置(201)、设置在渗透汽化膜装置(201)的上游或下游并储存有NMP水溶液或NMP浓缩液的容器(101)、(103)、(106)、(301)、和将容器(101)、(103)、(106)、(301)的气相部用惰性气体填充的惰性气体供给机构(L401)、(L402)、(L403)、(L404)、(L405)、(U402)、(U403)、(U404)、(U405)。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利