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公开(公告)号：CN104121590B
公开(公告)日：2017-10-24
申请号：CN201410168388.6
申请日：2014-04-24
Applicant: 大阳日酸株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够高效地处理包含氢和氨的排气的排气处理装置。该排气处理装置包括：第1除害装置(12)，其用于进行包含氢和氨的排气的一次处理；第2除害装置(13)，其用于在第1除害装置之后进行排气的二次除害处理；温度测定部件(14)，其用于测定从第1除害装置导出的一次处理气体的温度；以及控制部件(15)，在由温度测定部件测定的一次处理气体的温度高于设定为比预先设定的目标温度高的高温侧设定温度时，该控制部件进行降低第1除害装置的运行温度的控制，在由温度测定部件测定的一次处理气体的温度低于设定为比目标温度低的低温侧设定温度时，该控制部件进行升高第1除害装置的运行温度的控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102143794B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN200980134671.4
申请日：2009-08-21
Applicant: 大阳日酸株式会社
Inventor： 川端宏文
CPC classification number: F23G7/065 , B01D53/78 , B01D2251/30 , B01D2257/204 , B01D2257/2047 , B01D2258/0216 , F23J15/006 , F23J15/025 , F23J15/04 , F23J2215/10 , F23J2217/101 , F23J2217/50 , F23J2219/20 , F23J2219/40
Abstract: 本发明的废气处理方法是将来自半导体装置的废气导入到燃烧式除害装置，接着送到集尘装置，进而送入两段结构的气体洗净装置的处理方法，所述两段结构的气体洗净装置由第一段气体洗净装置和第二段气体洗净装置构成，在第一段气体洗净装置中，以水作为洗净液进行气体洗净，接着，在第二段气体洗净装置中，以碱性水溶液作为洗净液进行气体洗净。
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公开(公告)号：CN104121590A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201410168388.6
申请日：2014-04-24
Applicant: 大阳日酸株式会社
Abstract: 本发明提供一种能够高效地处理包含氢和氨的排气的排气处理装置。该排气处理装置包括：第1除害装置(12)，其用于进行包含氢和氨的排气的一次处理；第2除害装置(13)，其用于在第1除害装置之后进行排气的二次除害处理；温度测定部件(14)，其用于测定从第1除害装置导出的一次处理气体的温度；以及控制部件(15)，在由温度测定部件测定的一次处理气体的温度高于设定为比预先设定的目标温度高的高温侧设定温度时，该控制部件进行降低第1除害装置的运行温度的控制，在由温度测定部件测定的一次处理气体的温度低于设定为比目标温度低的低温侧设定温度时，该控制部件进行升高第1除害装置的运行温度的控制。
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公开(公告)号：CN111589298A
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN202010037226.4
申请日：2020-01-14
Applicant: 大阳日酸株式会社
Abstract: 本发明提供能够抑制气体加热器所需的能量的量并降低运行成本的气体精制装置及其运转方法。该气体精制装置具有：气体加热器，其加热精制对象气体；催化剂筒，其使加热的精制对象气体中的杂质成分发生催化反应；精制器，其去除自催化剂筒导出的精制对象气体中的去除对象成分；气体导入路径和气体导入阀，该气体导入路径向气体加热器导入精制对象气体；精制器入口路径，其使自催化剂筒导出的气体向精制器导入；旁通路径和旁通阀，该旁通路径自气体导入阀的上游侧分支并与精制器入口路径连接；以及分析仪，其设于比旁通路径的分支部靠上游侧的位置，测量精制对象气体中的杂质成分浓度，根据测量的杂质成分浓度控制气体导入阀和旁通阀的开闭。
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公开(公告)号：CN104121589A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201410169082.2
申请日：2014-04-24
Applicant: 大阳日酸株式会社
IPC: F23G7/00
Abstract: 本发明提供一种能够高效地处理包含氢和氨的排气的排气处理装置。该排气处理装置包括：测定包含氢和氨的排气中的氢浓度的第1氢浓度测定部件(13)、在该第1氢浓度测定部件的下游侧测定排气中的氢浓度的第2氢浓度测定部件(16)、以及设置在第2氢浓度测定部件的下游侧的燃烧式除害装置(12)，并且，在第1氢浓度测定部件和第2氢浓度测定部件之间包括氢添加部件，当由第1氢浓度测定部件测定的第1氢浓度成为第1氢浓度设定值以下时，该氢添加部件开始向排气添加氢，在由第2氢浓度测定部件测定的第2氢浓度成为第2氢浓度设定值以上时，该氢添加部件结束向排气添加氢。
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公开(公告)号：CN102143794A
公开(公告)日：2011-08-03
申请号：CN200980134671.4
申请日：2009-08-21
Applicant: 大阳日酸株式会社
Inventor： 川端宏文
CPC classification number: F23G7/065 , B01D53/78 , B01D2251/30 , B01D2257/204 , B01D2257/2047 , B01D2258/0216 , F23J15/006 , F23J15/025 , F23J15/04 , F23J2215/10 , F23J2217/101 , F23J2217/50 , F23J2219/20 , F23J2219/40
Abstract: 本发明的废气处理方法是将来自半导体装置的废气导入到燃烧式除害装置，接着送到集尘装置，进而送入两段结构的气体洗净装置的处理方法，所述两段结构的气体洗净装置由第一段气体洗净装置和第二段气体洗净装置构成，在第一段气体洗净装置中，以水作为洗净液进行气体洗净，接着，在第二段气体洗净装置中，以碱性水溶液作为洗净液进行气体洗净。
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