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公开(公告)号:CN117840629A
公开(公告)日:2024-04-09
申请号:CN202410031970.1
申请日:2024-01-09
Applicant: 大连理工大学
IPC: B23K35/26 , B23K1/00 , C22C1/02 , B23K101/36
Abstract: 本发明公开了一种低熔点In‑Bi‑Sn‑Ag合金钎料及其制备方法、应用,In‑Bi‑Sn‑Ag合金钎料包括以下质量百分比的组分:15%~25%的Sn、10%~30%的In、1%~12%的Ag和40%~60%的Bi;In和Ag的原子百分比之和与Bi和Sn的原子百分比为35.7:39.3:25。基于“(团簇)连接原子”理论模型,并结合相图、混合焓及强交互作用原则,在Sn‑Bi基础上联合Ag元素和In元素的复合添加,并严格控制各合金元素成分配比,具有低熔点、Cu和Ni基板润湿性良好、焊接强度高、成本适中、无铅更加环保等优点,尤其适用于柔性基板互连,也可应用于3D IC多层封装。