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公开(公告)号:CN110116987A
公开(公告)日:2019-08-13
申请号:CN201910440024.1
申请日:2019-05-24
Applicant: 大连理工大学
IPC: B81C1/00
Abstract: 本发明属于半导体纳米线器件技术领域,提供了一种半导体纳米线传感器,在具有导电层的绝缘衬底上制备具有特定深宽比的凹槽结构,使凹槽两侧的导电层相互隔绝;然后在凹槽底部设置表面改性层,覆盖凹槽底部;接着在导电层侧壁生长纳米线,使纳米线桥接凹槽两侧的导电层,同时该生长过程也会在凹槽内产生沉积物。通过设计凹槽的深宽比以及引入表面改性层,可以减少或消除凹槽底部的沉积物,从而消除桥接纳米线的旁路电流。此外,利用桥接纳米线的多次生长,可以提高纳米线的桥接几率、总表面积以及生长可控程度。本发明解决了现有桥接纳米线生长过程中凹槽内的沉积物问题,提高了纳米线传感器的电学特性。
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公开(公告)号:CN103337512A
公开(公告)日:2013-10-02
申请号:CN201310161084.2
申请日:2013-04-17
Applicant: 大连理工大学 , 北京三星通信技术研究有限公司
Abstract: 一种具有环形圈包层结构的纳米线晶体管,属于新材料、电子器件和半导体技术领域。其特征是通过控制纳米线“芯—包层”结构的生长条件,在纳米线侧壁特定部位形成环形圈包层结构,从而实现在纳米线轴向上集成多个晶体管。环形圈的位置可以通过“芯”与“包层”之间的晶格应力来控制;环形圈包层可作为场效应晶体管的环形栅极;环形圈凸起的形貌,使其相对于均匀包层更易于光学辨别,还可作为制备电极时的标记。本发明的效果和益处是:通过控制纳米线生长条件,在侧壁形成环形圈包层结构,实现晶体管在纳米线轴向上的集成。
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