一种真空激光坝变形测量方法

    公开(公告)号:CN1546942A

    公开(公告)日:2004-11-17

    申请号:CN200310105231.0

    申请日:2003-11-28

    Abstract: 一种真空激光坝变形测量方法,属于光学、光电检测和几何位置测量技术领域,其特征在于:在测点基座和波带板之间设置了一个二维位置调整机构,在测量时,通过这个机构调节波带板相对于测点基座的位置,使到达激光接收器的激光光点位于激光接收器的中心附近,根据波带板相对于测点基座的位移量和光点在激光接收器上的偏移量,可以计算出测点的位移。本发明的效果和益处是由于测量时光点始终在激光接收装置的中心附近,因此,可以大大减小真空管道在接收端的直径,同时也减小了对激光接收器的接收范围的要求,从而达到减小真空管道直径,降低系统造价,减小施工难度的目的。

    一种真空激光坝变形测量方法

    公开(公告)号:CN1235013C

    公开(公告)日:2006-01-04

    申请号:CN200310105231.0

    申请日:2003-11-28

    Abstract: 一种真空激光坝变形测量方法,属于光学、光电检测和几何位置测量技术领域,其特征在于:在测点基座和波带板之间设置了一个二维位置调整机构,在测量时,通过这个机构调节波带板相对于测点基座的位置,使到达激光接收器的激光光点位于激光接收器的中心附近,根据波带板相对于测点基座的位移量和光点在激光接收器上的偏移量,可以计算出测点的位移。本发明的效果和益处是由于测量时光点始终在激光接收装置的中心附近,因此,可以大大减小真空管道在接收端的直径,同时也减小了对激光接收器的接收范围的要求,从而达到减小真空管道直径,降低系统造价,减小施工难度的目的。

    一种用于激光波带板准直系统的激光接收装置

    公开(公告)号:CN100341260C

    公开(公告)日:2007-10-03

    申请号:CN200310105110.6

    申请日:2003-11-12

    Abstract: 一种用于激光波带板准直系统的接收装置,属于光学、光电检测和几何位置测量技术领域,其特征是用会聚镜、变焦镜头、摄像机及标定机构组成,解决了采用面阵摄像机的波带板准直系统对测量点到接收装置距离变化,而对接收器不同的空间分辨率要求,同时也解决了系统的标定问题。本发明的效果和益处是由于采用摄像机作为光电接收器件,光敏单元多,其输出图象便于进行计算机数字图像处理,并由于实现了可变测量范围和空间分辨率,提高了测量精度和可靠性。由于本装置中没有二维扫描机构,使接收装置结构简洁、紧凑,便于密封安装。由于本装置不必进行二维逐点扫描,减少了测量时间,提高了测量速度。

    一种光学镜头防护装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1554962A

    公开(公告)日:2004-12-15

    申请号:CN200310120870.4

    申请日:2003-12-27

    Abstract: 一种光学镜头防护装置,属于光电检测、工业监视技术领域,适用于恶劣环境下的光学镜头的防护,如加热炉内的摄像镜头的防护等。本装置的特征是在由防护腔内筒,防护腔外筒,前端盖等部分组成的光学镜头防护装置中设置一个导流装置,使通过的防护气体在光学镜头前产生旋转扩散气流,形成一个局部无尘的小环境,实现保护光学镜头免受灰尘的污染、有害气体的侵蚀和高温的影响。本发明的效果和益处是保护气体在通过光学通道后迅速发散,减少了保护气体向前的流速和对周围污浊空气的带动而形成桶状沉积对光学系统视场角的影响;避免了污垢在光学镜头和前端盖表明附着;保护气流可以有效冷却光学镜头,从而达到了保证光学镜头长期可靠工作的目的。

    黑背景箱
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1687699A

    公开(公告)日:2005-10-26

    申请号:CN200510046264.1

    申请日:2005-04-13

    Abstract: 本发明属于光电检测技术领域,涉及到一种为光电检测系统提供黑暗背景的设备。其特征为采用不透光材料构成密闭箱体,箱体可设计成圆柱状、立方柱状或多棱柱状,根据光电系统检测区域的要求,在箱体上开出一定形状和大小的开口作为黑背景区域,外界的杂散光从箱体开口入射,在箱体内多次反射衰减后,只有少部分能够从开口射出,箱体相对开口的尺寸越大,入射光线在箱体内多次反射后能够射出开口的概率越低,光线出射越少,黑背景效果越好。箱体内部涂黑可进一步减少光线反射,提高黑背景效果。本发明的效果和益处是:为光电检测系统提供稳定可靠的黑背景,制造工艺简单,耐用,无功耗,免维护,特别适用于工业现场的强电磁干扰、多粉尘、碰撞、振动的环境。

Patent Agency Ranking