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公开(公告)号：CN113336186B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202110558110.X
申请日：2021-05-21
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明属于加工技术领域，提供了一种同步制造纳米凹坑阵列的跨尺度微纳结构加工方法。将纳米颗粒分散在光刻胶中，通过光刻工艺形成厚度与纳米颗粒直径接近的光刻胶层，以含有纳米颗粒的图形化光刻胶层为掩膜对基底进行刻蚀，胶层中的纳米颗粒可被刻蚀液腐蚀或溶解，并逐渐形成纳米孔穴，刻蚀液透过纳米孔穴对基底进行刻蚀。本发明仅需一次光刻与腐蚀工艺，即可在基底上同时构建具有微米或几百纳米的功能结构以及在功能结构表面具有纳米特征尺寸的凹坑结构。简化了制造工艺流程、降低了加工成本，有利于批量化制造。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113336186A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110558110.X
申请日：2021-05-21
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明属于加工技术领域，提供了一种同步制造纳米凹坑阵列的跨尺度微纳结构加工方法。将纳米颗粒分散在光刻胶中，通过光刻工艺形成厚度与纳米颗粒直径接近的光刻胶层，以含有纳米颗粒的图形化光刻胶层为掩膜对基底进行刻蚀，胶层中的纳米颗粒可被刻蚀液腐蚀或溶解，并逐渐形成纳米孔穴，刻蚀液透过纳米孔穴对基底进行刻蚀。本发明仅需一次光刻与腐蚀工艺，即可在基底上同时构建具有微米或几百纳米的功能结构以及在功能结构表面具有纳米特征尺寸的凹坑结构。简化了制造工艺流程、降低了加工成本，有利于批量化制造。
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公开(公告)号：CN113336185A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110557143.2
申请日：2021-05-21
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明属于加工技术领域，提供了一种集成有纳米凸起阵列的跨尺度微纳结构加工方法。将纳米颗粒分散于光刻胶中，通过光刻工艺形成厚度与纳米颗粒直径接近的光刻胶层，去除功能结构表面光刻胶层中纳米颗粒之间的光刻胶，光刻胶层图形化，在刻蚀或腐蚀基底材料时或在此之后，以纳米颗粒为掩膜，在功能结构表面刻蚀或腐蚀形成纳米凸起结构。本发明无需格外进行复杂的纳米加工工艺、纳米粒子修饰等工艺，仅需一次光刻及刻蚀工艺，即可在基底上同时构建具有微米或几百纳米的功能结构，以及在功能结构表面纳米特征尺寸的凸起结构，加工过程简单，所需设备在一般实验室均可以达成，降低加工跨尺度微纳结构的成本，有利于批量化生产制造。
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公开(公告)号：CN116003863B
公开(公告)日：2024-02-02
申请号：CN202310013766.2
申请日：2023-01-05
Applicant: 大连理工大学
IPC: C08J7/12 , C08L101/00 , C08L83/04 , C08L33/12
Abstract: 一种基于氧等离子体改性的空间湿润性梯度表面改性装置及表面改性方法，属于聚合物材料表面改性技术领域。表面改性装置包括改性支架、掩膜夹具、多个孔隙率不同的通孔掩膜、改性材料夹具、改性材料、支撑板。在改性前，将改性材料放置于改性材料夹具的凹槽上，并组装空间湿润性梯度表面改性装置。再将组装好的表面改性装置放置于氧等离子体发生装置中，孔隙率不同的通孔掩膜用于控制氧等离子体的透过量，在改性材料表面形成不同氧等离子体浓度的反应腔室。本发明以简单的结构能够大幅降低制造费、维护管理费等费用，且能够实现在一次氧等离子体的作用下形成被照射聚合物表面的空间湿润性梯度的表面改性装置及表面改性方法。
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公开(公告)号：CN116840324A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202310807614.X
申请日：2023-07-04
Applicant: 大连理工大学
IPC: G01N27/416 , G01N27/30 , B01L3/00
Abstract: 本发明提供一种基于电化学检测的便携式微流控芯片及使用方法，属于微纳制造领域。所述的便携式微流控芯片由通道层和传感电极层组成检测器件，可用于生物化学检测领域。传感电极层位于通道层上方，二者可以通过热键合或胶黏键合或其他方式进行封装。通道层用于形成流体通道，起到绝缘层的作用，包括预处理区、试剂储存区、检测区、参比电极腔室和废液池，可实现分离、混合和检测等多种不同的功能。传感电极层为具有传感电极的盖片层，其上集成三电极工作体系，包括设有工作电极、参比电极、对电极。本发明通过制作结构简单基片和盖片结构，可保证电化学传感的稳定性，并有效减低装配难度，效降低工艺成本，提高生产效率。
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公开(公告)号：CN116003863A
公开(公告)日：2023-04-25
申请号：CN202310013766.2
申请日：2023-01-05
Applicant: 大连理工大学
IPC: C08J7/12 , C08L101/00 , C08L83/04 , C08L33/12
Abstract: 一种基于氧等离子体改性的空间湿润性梯度表面改性装置及表面改性方法，属于聚合物材料表面改性技术领域。表面改性装置包括改性支架、掩膜夹具、多个孔隙率不同的通孔掩膜、改性材料夹具、改性材料、支撑板。在改性前，将改性材料放置于改性材料夹具的凹槽上，并组装空间湿润性梯度表面改性装置。再将组装好的表面改性装置放置于氧等离子体发生装置中，孔隙率不同的通孔掩膜用于控制氧等离子体的透过量，在改性材料表面形成不同氧等离子体浓度的反应腔室。本发明以简单的结构能够大幅降低制造费、维护管理费等费用，且能够实现在一次氧等离子体的作用下形成被照射聚合物表面的空间湿润性梯度的表面改性装置及表面改性方法。
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