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公开(公告)号:CN112172138B
公开(公告)日:2021-11-19
申请号:CN202010927527.4
申请日:2020-09-07
Applicant: 大连理工大学
IPC: B29C64/153 , B29C64/314 , B29C64/321 , B29C64/35 , B29B13/06 , B33Y10/00 , B33Y40/10 , B33Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种光粉水平间距可调的激光沉积头装置以及光粉非同轴增材制造方法,属于激光增材制造领域。包括光路系统、粉路系统及光粉位置调节系统。在激光沉积制造构件前,通过调节光粉水平间距调节装置以改变粉斑相对于光斑的水平间距,使光斑位于粉斑的前方。本发明解决了在同步送粉条件下,当粉末束与激光束位置重合时,熔池前沿伴有大量粉末飞溅的问题,有效提高了粉末的利用率。
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公开(公告)号:CN112172138A
公开(公告)日:2021-01-05
申请号:CN202010927527.4
申请日:2020-09-07
Applicant: 大连理工大学
IPC: B29C64/153 , B29C64/314 , B29C64/321 , B29C64/35 , B29B13/06 , B33Y10/00 , B33Y40/10 , B33Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种光粉水平间距可调的激光沉积头装置以及光粉非同轴增材制造方法,属于激光增材制造领域。包括光路系统、粉路系统及光粉位置调节系统。在激光沉积制造构件前,通过调节光粉水平间距调节装置以改变粉斑相对于光斑的水平间距,使光斑位于粉斑的前方。本发明解决了在同步送粉条件下,当粉末束与激光束位置重合时,熔池前沿伴有大量粉末飞溅的问题,有效提高了粉末的利用率。
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公开(公告)号:CN112916882B
公开(公告)日:2022-04-12
申请号:CN202110091520.8
申请日:2021-01-23
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种防碰撞的增材制造沉积头,包括沉积基座和沉积嘴,还包括缓冲冲击力装置和防撞快换装置;所述沉积基座和沉积嘴之间通过缓冲冲击力装置连接,所述沉积嘴末端与防撞快换装置内壁相连接。本发明可以在装置发生碰撞时缓冲纵向和横向的碰撞冲击力,进而保护沉积头内部结构,且可以实现沉积嘴和成本较低的防撞快换装置的快速更换。
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公开(公告)号:CN112916882A
公开(公告)日:2021-06-08
申请号:CN202110091520.8
申请日:2021-01-23
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开了一种防碰撞的增材制造沉积头,包括沉积基座和沉积嘴,还包括缓冲冲击力装置和防撞快换装置;所述沉积基座和沉积嘴之间通过缓冲冲击力装置连接,所述沉积嘴末端与防撞快换装置内壁相连接。本发明可以在装置发生碰撞时缓冲纵向和横向的碰撞冲击力,进而保护沉积头内部结构,且可以实现沉积嘴和成本较低的防撞快换装置的快速更换。
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公开(公告)号:CN112916874A
公开(公告)日:2021-06-08
申请号:CN202110091530.1
申请日:2021-01-23
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明公开的属于增材制造技术领域,具体为一种增材制造过程中熔池两侧夹持辅助成形装置和方法,所述的装置包括:增材制造设备、连接装置、夹持部件;所述的连接装置用于将夹持部件与增材制造设备进行连接,以调整夹持部件与增材沉积头的相对位置以确保二者的同步运动,所述的增材制造设备包括增材沉积头、增材热源、气瓶、送料装置、送料喷嘴、送料喷嘴连接板,所述的送料喷嘴将增材制造原材料输送至沉积位置。该增材制造过程中熔池两侧夹持辅助成形装置和方法,通过连接装置可应用于不同沉积宽度的增材制造过程,通过夹持部件的夹持约束作用,可有效提高沉积层侧壁的表面平整度及宽度方向的尺寸精度。
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