公开(公告)号：CN101045989B

公开(公告)日：2010-09-29

申请号：CN200710101587.5

申请日：2007-04-30

Applicant: 大连理工大学

Inventor： 雷明凯 ,  郭甲 ,  高峰 ,  袁力江 ,  张仲麟

IPC: C23C14/48 ,  C23C14/54

Abstract: 材料表面工程领域中，大面积直流脉冲等离子体基低能离子注入装置，包括金属真空室[5]，低能离子注入电源[14]和真空系统，特征：取消由外界输运等离子体的独立等离子体源，在真空室内安置一金属网罩[6]，等离子体源电源[8]向网罩施加直流脉冲负偏压，在炉体[2]内壁和网罩之间形成等离子体，或者增加提供放电辅助作用的热阴极灯丝[9]降低放电电压，将直流脉冲等离子体源和低能离子注入装置组合在真空室内，在网罩与样品台[11]上分别施加的直流脉冲负偏压交替发生，保证了直流脉冲等离子体的产生和低能离子注入交替不间断的进行。优点：成本低；能实现大面积的均匀等离子体基低能离子注入。

公开(公告)号：CN101045989A

公开(公告)日：2007-10-03

申请号：CN200710101587.5

申请日：2007-04-30

Applicant: 大连理工大学

Inventor： 雷明凯 ,  郭甲 ,  高峰 ,  袁力江 ,  张仲麟

IPC: C23C14/48 ,  C23C14/54

Abstract: 材料表面工程领域中，大面积直流脉冲等离子体基低能离子注入装置，包括金属真空室[5]，低能离子注入电源[14]和真空系统，特征：取消由外界输运等离子体的独立等离子体源，在真空室内安置一金属网罩[6]，等离子体源电源[8]向网罩施加直流脉冲负偏压，在炉体[2]内壁和网罩之间形成等离子体，或者增加提供放电辅助作用的热阴极灯丝[9]降低放电电压，将直流脉冲等离子体源和低能离子注入装置组合在真空室内，在网罩与样品台[11]上分别施加的直流脉冲负偏压交替发生，保证了直流脉冲等离子体的产生和低能离子注入交替不间断的进行。优点：成本低；能实现大面积的均匀等离子体基低能离子注入。