一种多能场耦合辅助增强射流交叉孔去毛刺化学机械抛光装备及加工方法

    公开(公告)号:CN116214281A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202310130911.5

    申请日:2023-02-17

    Abstract: 本发明提供一种多能场耦合辅助增强射流交叉孔去毛刺化学机械抛光装备及加工方法,包括机架和安装在机架内的加工舱,收集舱,过滤舱,物料舱,水箱,喷嘴系统,光源,超声发生器,真空泵,高压泵,控制系统和外壳钣金。其将化学机械抛光方法应用于相交内孔抛光,实现了深交叉孔内毛刺的精确去除和内壁精密抛光。并通过喷嘴系统内引入光源,以光催化辅助提高化学机械抛光中的化学反应速率,降低反应势垒,提高反应活性,进而提高抛光效率。同时通过控制高压泵压力和扰流器,可以精确控制喷嘴系统内的流场行为,避免了在深交叉孔去毛刺抛光时出现“过抛”、“倒棱”、“欠抛”等过度损伤缺陷,以实现深交叉孔内毛刺精确去除和内壁精密抛光。

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