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公开(公告)号：CN115739797B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202211386710.3
申请日：2022-11-07
Applicant: 大连理工大学 , 大连理工大学滇西产业发展研究院
Abstract: 本发明属于硅单晶制造技术领域，涉及一种绿色环保可复用硅料清洗液及其制备方法和清洗工艺；所述硅料清洗液包括1#清洗液和2#清洗液；1#清洗液包括基底和氧化层腐蚀剂；2#清洗液包括pH调节剂、氧化剂、基底；硅料清洗液不含任何强酸强碱成分，极大改善了操作人员的工作环境，降低了对操作人员的健康威胁；硅料清洗液对硅料腐蚀性低且可复用，降低了对硅料和清洗液的消耗，降低成本；硅料清洗液组成成分绿色环保，对环境污染小，简单处理后即可进行排放，降低废物废液处理成本；清洗工艺依次清洗去除表面颗粒、无机盐、氧化层、金属污染物、有机物，改进了现有工艺繁琐、冗杂的清洗方式，提高清洗效率，具有广阔的研究价值和工业应用前景。
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公开(公告)号：CN115739797A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211386710.3
申请日：2022-11-07
Applicant: 大连理工大学 , 大连理工大学滇西产业发展研究院
Abstract: 本发明属于硅单晶制造技术领域，涉及一种绿色环保可复用硅料清洗液及其制备方法和清洗工艺；所述硅料清洗液包括1#清洗液和2#清洗液；1#清洗液包括基底和氧化层腐蚀剂；2#清洗液包括pH调节剂、氧化剂、基底；硅料清洗液不含任何强酸强碱成分，极大改善了操作人员的工作环境，降低了对操作人员的健康威胁；硅料清洗液对硅料腐蚀性低且可复用，降低了对硅料和清洗液的消耗，降低成本；硅料清洗液组成成分绿色环保，对环境污染小，简单处理后即可进行排放，降低废物废液处理成本；清洗工艺依次清洗去除表面颗粒、无机盐、氧化层、金属污染物、有机物，改进了现有工艺繁琐、冗杂的清洗方式，提高清洗效率，具有广阔的研究价值和工业应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117359439A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202311499051.9
申请日：2023-11-10
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明提供一种大口径薄壁硬脆石英坩埚的卧式磨抛一体化装备及方法，包括磨抛定位装置、自动化磨抛装置、磨抛液贮存及输送装置、三维扫描装置、传动装置、设备壳体和控制系统，磨抛定位装置用于实现工件的定位、夹紧；自动化磨抛装置由控制系统控制以完成磨抛工件的磨削和抛光；磨抛液贮存及输送装置用于磨抛液的贮存和输送；三维扫描装置用于扫描磨抛工件的内壁轮廓，并将扫描结果上传至控制系统以进行数据求解与轨迹规划；传动装置用于驱动底座带动磨抛工件的水平移动；控制系统连接于设备壳体前板上，用于监测扫描进程、工件位置、自动化磨抛参数、磨抛液流速、传动速度、压力信息状态，并进行反馈调节。本发明自动化程度高，适用范围广。
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公开(公告)号：CN115650478B
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202211229311.6
申请日：2022-10-09
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明提供一种复合型化学机械抛光和抛光液循环处理一体化的设备及处理方法，设备包括：复合型化学机械抛光装置，包括抛光盘、抛光垫、载物台、施压器、抛光液滴加器、液体存放盘、光源、直流电源、红外测温仪和废液出水管；废液循环处理系统，包括沉淀室、化合室、生曝室、光化室、固废室及磨粒回收机构。本发明加装光电催化装置，协助材料去除。在复合型化学机械抛光装置上连接抛光废液及清洗液的循环处理系统，实现磨粒的循环使用及零排放的目标。绿色抛光废液的处理循环系统，由沉淀装置、磨粒收集、生化装置及光化学催化装置等连接组成，采用物理沉降法、化学絮凝法、生物分解法及光能转化法对抛光废液进行循环收集处理。
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公开(公告)号：CN115650478A
公开(公告)日：2023-01-31
申请号：CN202211229311.6
申请日：2022-10-09
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明提供一种复合型化学机械抛光和抛光液循环处理一体化的设备及处理方法，设备包括：复合型化学机械抛光装置，包括抛光盘、抛光垫、载物台、施压器、抛光液滴加器、液体存放盘、光源、直流电源、红外测温仪和废液出水管；废液循环处理系统，包括沉淀室、化合室、生曝室、光化室、固废室及磨粒回收机构。本发明加装光电催化装置，协助材料去除。在复合型化学机械抛光装置上连接抛光废液及清洗液的循环处理系统，实现磨粒的循环使用及零排放的目标。绿色抛光废液的处理循环系统，由沉淀装置、磨粒收集、生化装置及光化学催化装置等连接组成，采用物理沉降法、化学絮凝法、生物分解法及光能转化法对抛光废液进行循环收集处理。
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公开(公告)号：CN116330141A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202310199175.9
申请日：2023-03-03
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明提供一种金属复杂曲面超声热能辅助化学机械抛光装备与工艺方法。由横梁、滑枕、X轴卧式导轨、抛光设备壳体、控制系统、抛光装置及热能辅助装置、超声辅助装置、主轴箱、Z轴立式导轨组成，横梁连接Z轴立式导轨及主轴箱；横梁的底端滑动连接在滑枕上。抛光设备壳体容纳抛光装置及热能辅助装置；控制系统控制抛光装置及热能辅助装置、超声辅助装置及主轴箱的状态；抛光装置进行工件的化学机械抛光过程；热能辅助装置改变化学机械抛光过程中的抛光温度；超声辅助装置实现主轴部分的超声振动；Z轴立式导轨连接主轴箱，实现主轴Z方向移动。本发明基于化学机械抛光原理及多能场耦合作用，待加工表面同时进行抛光处理，加工效率高，均匀性好。
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公开(公告)号：CN116276547A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310243294.X
申请日：2023-03-14
Applicant: 大连理工大学
Abstract: 本发明提供一种多自由度大尺寸石英坩埚曲面化学机械磨抛装备及加工方法，包括床身、可移动加工台、坩埚固定吸盘夹具、主轴系统、异形磨抛轮工控柜、磨抛液喷雾系统、超声振动辅助加工系统和数控系统。可移动加工平台可沿Y方向移动，坩埚固定吸盘夹具用于不同尺寸石英坩埚的精确定位和稳定装夹，异形磨抛轮用于坩埚内壁不同部位曲面的磨削和抛光加工，磨抛液喷雾系统用于磨抛过程中供给磨抛液，超声振动辅助加工系统用于提供超声振动辅助磨抛加工以及检测加工过程中的受力情况和稳定性。本发明解决了大尺寸石英坩埚内壁曲面上缺陷及气泡层无法处理的问题，磨抛后的坩埚内壁整洁光滑一致性好，减少了石英坩埚制造中因缺陷等无法使用而形成的浪费。
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