一种精准定位静电打印系统和方法

    公开(公告)号:CN109016864A

    公开(公告)日:2018-12-18

    申请号:CN201811057206.2

    申请日:2018-09-11

    Abstract: 本发明涉及一种精准定位静电打印系统和方法。该系统包括处理装置、注射装置、拍摄装置和平移台,所述处理装置分别与所述注射装置、所述拍摄装置和所述平移台电连接,所述注射装置的打印针头位于所述平移台的正上方,所述拍摄装置位于所述打印针头的侧上方,且所述拍摄装置的拍摄方向与所述平移台的水平方向的夹角为锐角。本发明提供的技术方案可以从待打印器件的精密图案指定位置处开始静电打印,并有效提高批量打印的效率。

    一种基于原位AAO模板的铜纳米线阵列封装凸点制备工艺

    公开(公告)号:CN118866716A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202410874294.4

    申请日:2024-07-02

    Abstract: 本发明公开了一种基于原位AAO模板的铜纳米线阵列封装凸点制备工艺,属于集成电路封装领域。主要步骤包括在硅基底上制备二氧化硅介质层;光刻刻蚀二氧化硅;沉积Al薄膜;将Al薄膜阳极氧化为纳米多孔氧化铝模板;电镀填充铜纳米线;铜纳米线阵列基板对齐进行热压或烧结键合。本发明可在硅等衬底上制备出原位垂直的阵列铜纳米线凸点,纳米线径在10‑300nm范围内可控,且致密度高、工艺简单,无需使用复杂的精密光刻和平整化设备,有效解决了铜凸点键合对高温、高压及高平整度过于依赖的问题,并大幅降低了铜凸点封装技术的工业成本和产业化难度,在集成电路封装领域具有极高的应用价值。

    一种精准定位静电打印系统和方法

    公开(公告)号:CN109016864B

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201811057206.2

    申请日:2018-09-11

    Abstract: 本发明涉及一种精准定位静电打印系统和方法。该系统包括处理装置、注射装置、拍摄装置和平移台,所述处理装置分别与所述注射装置、所述拍摄装置和所述平移台电连接,所述注射装置的打印针头位于所述平移台的正上方,所述拍摄装置位于所述打印针头的侧上方,且所述拍摄装置的拍摄方向与所述平移台的水平方向的夹角为锐角。本发明提供的技术方案可以从待打印器件的精密图案指定位置处开始静电打印,并有效提高批量打印的效率。

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