公开(公告)号：CN1058301C

公开(公告)日：2000-11-08

申请号：CN96107721.2

申请日：1996-06-06

Applicant: 大连海事大学

Inventor： 金华 ,  刘世永 ,  楚树成 ,  史雅琴

IPC: C23C14/38

Abstract: 一种离子溅射渗金属的方法，其特征在于：将金属靶放在辉光放电离子轰出热处理炉的阴极上；将与电报完全绝缘的工件置于金属靶附近；将炉闪气压抽至可产生辉光放电的范围；将热处理炉的工作电压调至800伏以上，额定工作电压以下，同时通入少量氨气；将靶和工件温度调至900℃以上，靶材和工件熔点温度以下，保温。本发明的优点：由于本发明是在普通的离子轰出热处理炉内实现渗金属内，从而使得实现渗金属的设备条件容易得到满足；操作简便，质量也能够满足要求。

公开(公告)号：CN1162025A

公开(公告)日：1997-10-15

申请号：CN96107721.2

申请日：1996-06-06

Applicant: 大连海事大学

Inventor： 金华 ,  刘世永 ,  楚树成 ,  史雅琴

IPC: C23C14/38

Abstract: 一种离子溅射渗金属的方法，其特征在于：将金属靶放在辉光放电离子轰出热处理炉的阴极上；将与电报完全绝缘的工件置于金属靶附近；将炉闪气压抽至可产生辉光放电的范围；将热处理炉的工作电压调至800伏以上，额定工作电压以下，同时通入少量氨气；将靶和工件温度调至900℃以上，靶材和工件熔点温度以下，保温。本发明的优点：由于本发明是在普通的离子轰出热处理炉内实现渗金属的，从而使得实现渗金属的设备条件容易得到满足；操作简便，质量也能够满足要求。