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公开(公告)号：CN109487248B
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN201811641855.7
申请日：2018-12-29
Applicant: 大连大学
Abstract: 本发明提供一种化学镀Ni‑P‑PTFE‑SiC复合镀层的制备工艺，包括如下步骤：(1)碳钢试样前处理包括喷砂、清洗、除油、除锈、清洗和盐酸活化；(2)PTFE乳液预处理；(3)SiC微粒除油处理；(4)SiC微粒活化处理；(5)SiC微粒分散处理；(6)配置800ml镀液C，将PTFE分散液和SiC分散液加入镀液C中，(7)把试片放入混合镀液C中施镀2h后取出，(8)将镀后试片热水中超声清洗后取出风干，(9)测试试片的厚度、结合力、硬度、摩擦系数和磨损率。该镀层相比Ni‑P镀层、Ni‑P‑PTFE镀层和Ni‑P‑SiC镀层具有更优异的耐磨性能。镀层致密无孔，具有自润滑和耐磨作用，可以有效实现碳钢表面耐磨的目的。
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公开(公告)号：CN109576685A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811641929.7
申请日：2018-12-29
Applicant: 大连大学
Abstract: 本发明涉及一种化学镀Ni-P/Ni-Zn-P三层阳极复合镀层，该镀层结构为内层低磷Ni-P合金、中间层高磷Ni-P合金和外层Ni-Zn-P镀层，所述的阳极复合镀层间具有电位差的梯度，复合镀层由表面向基体的电极电位依次降低；本发明利用化学镀的方法制备各个镀层进行“层叠”的阳极复合镀层，造成镀层内部缺陷错位而大大降低镀层贯穿型孔隙率；达到进一步利用电化学牺牲阳极保护原理实现材料基体有效保护的目的。该镀层具有结构组织致密、孔隙率低、耐蚀性好、结合力强的特点。
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公开(公告)号：CN109487248A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811641855.7
申请日：2018-12-29
Applicant: 大连大学
Abstract: 本发明提供一种化学镀Ni-P-PTFE-SiC复合镀层的制备工艺，包括如下步骤：(1)碳钢试样前处理包括喷砂、清洗、除油、除锈、清洗和盐酸活化；(2)PTFE乳液预处理；(3)SiC微粒除油处理；(4)SiC微粒活化处理；(5)SiC微粒分散处理；(6)配置800ml镀液C，将PTFE分散液和SiC分散液加入镀液C中，(7)把试片放入混合镀液C中施镀2h后取出，(8)将镀后试片热水中超声清洗后取出风干，(9)测试试片的厚度、结合力、硬度、摩擦系数和磨损率。该镀层相比Ni-P镀层、Ni-P-PTFE镀层和Ni-P-SiC镀层具有更优异的耐磨性能。镀层致密无孔，具有自润滑和耐磨作用，可以有效实现碳钢表面耐磨的目的。
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公开(公告)号：CN102002691B
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：CN201010584720.9
申请日：2010-12-11
Applicant: 大连大学
Abstract: 本发明所述的种化学镀Ni-Zn-P阳极复合结构镀层的制备工艺，是以化学镀Ni-P合金工艺为基础，在45号钢基体上通过二次施镀制备Ni-Zn-P阳极复合结构镀层；复合镀层由表面向基体依次由低电位层和高电位层构成；具体工艺步骤为：1.选择镀液原料；2.除油除锈；3.超声清洗；4.盐酸活化；5.一次施镀；6.水洗；7.二次施镀；8.水洗；9.检测试样性能。本发明利用化学镀的方法制备具有良好耐蚀性能的Ni-Zn-P阳极复合结构镀层，由表面向基体依次由低电位层和高电位层构成；具有硬度高、结合力强、耐蚀性好、镀层为阳极镀层的特点。
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公开(公告)号：CN102002692B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN201010584893.0
申请日：2010-12-11
Applicant: 大连大学
IPC: C23C18/36
Abstract: 本发明所述的种化学镀Ni-P/Ni-P-PTFE复合结构镀层的制备工艺，是以化学镀Ni-P合金工艺为基础，在45号钢基体上通过二次施镀制备Ni-P/Ni-P-PTFE复合结构镀层；具体工艺步骤为：1、选择镀液原料；2、除油除锈；3、超声清洗；4、盐酸活化；5、一次施镀；6、水洗；7、二次施镀；8、水洗；9检测试样性能。本发明化学镀的方法制备具有良好摩擦性能的Ni-P/Ni-P-PTFE复合结构镀层，具有表面无孔、自润滑、摩擦系数适中、磨损率小的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104975260B
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：CN201510474064.X
申请日：2015-08-05
Applicant: 大连大学
Abstract: 本发明提供了一种高晶化率多晶硅薄膜的制备方法，该方法为：选取多晶硅粉末及磷粉末为原料，石墨片为蒸发源，k9玻璃片为基板，将原料、蒸发源和前处理后的基板放置于真空镀膜机中蒸镀，设定基板与原料间距离为130～150cm，基板温度100～300℃；将蒸镀后所得到的样品放入真空退火炉中在550℃温度下退火2h，用铝标准腐蚀液对所得样品进行表面腐蚀，得到多晶硅薄膜。本发明的多晶硅薄膜平整度高、晶粒尺寸均匀性好、晶化率高可达94.95％，本发明所需原料价格低廉、储量丰富，制备的合金薄膜力学性能好、制备工艺简单，易于工业化生产。
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公开(公告)号：CN104975260A
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201510474064.X
申请日：2015-08-05
Applicant: 大连大学
Abstract: 本发明提供了一种高晶化率多晶硅薄膜的制备方法，该方法为：选取多晶硅粉末及磷粉末为原料，石墨片为蒸发源，k9玻璃片为基板，将原料、蒸发源和前处理后的基板放置于真空镀膜机中蒸镀，设定基板与原料间距离为130～150cm，基板温度100～300℃；将蒸镀后所得到的样品放入真空退火炉中在550℃温度下退火2h，用铝标准腐蚀液对所得样品进行表面腐蚀，得到多晶硅薄膜。本发明的多晶硅薄膜平整度高、晶粒尺寸均匀性好、晶化率高可达94.95％，本发明所需原料价格低廉、储量丰富，制备的合金薄膜力学性能好、制备工艺简单，易于工业化生产。
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公开(公告)号：CN102605329A
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN201210069509.2
申请日：2012-03-16
Applicant: 大连大学
IPC: C23C14/24 , C23C14/16 , C23C14/18 , H01L31/0392 , H01L31/18
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明公开一种真空蒸镀太阳能电池用多晶硅薄膜及制备工艺，目的是解决现有多晶硅薄膜及制备工艺存在的问题。本发明在玻璃衬底上通过铝诱导晶化法得到多晶硅薄膜，薄膜由表面向衬底依次由多晶硅薄膜和铝层组成，薄膜厚度为5µm-10µm、晶化率达到73.2%～89.4%，薄膜理论光电转化率达到8.3%～10.5%。真空蒸镀太阳能电池用多晶硅薄膜制备工艺步骤如下：1.选择实验原料、衬底和蒸发源的材料；2.衬底除油；3.超声清洗；4.水洗；5.真空蒸镀硅薄膜；6.蒸镀铝膜；7.真空退火；8.铝标准腐蚀液腐蚀9.检测试样性能。本发明具有以下优点：真空蒸镀太阳能电池用多晶硅薄膜结合力好，纯度高，晶化率和光电转换率较高；工艺简单、效率高、能耗低，适合批量生产。
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公开(公告)号：CN102002691A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：CN201010584720.9
申请日：2010-12-11
Applicant: 大连大学
Abstract: 本发明所述的种化学镀Ni-Zn-P阳极复合结构镀层及制备工艺，是以化学镀Ni-P合金工艺为基础，在45号钢基体上通过二次施镀制备Ni-Zn-P阳极复合结构镀层；复合镀层由表面向基体依次由低电位层和高电位层构成；具体工艺步骤为：1、选择镀液原料；2、除油除锈；3、超声清洗；4、盐酸活化；5、一次施镀；6、水洗；7、二次施镀；8、水洗；9检测试样性能。本发明利用化学镀的方法制备具有良好耐蚀性能的Ni-Zn-P阳极复合结构镀层，由表面向基体依次由低电位层和高电位层构成；具有硬度高、结合力强、耐蚀性好、镀层为阳极镀层的特点。
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公开(公告)号：CN109468493A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201811646715.9
申请日：2018-12-29
Applicant: 大连大学
Abstract: 本发明提供一种粉末冶金Ni-Al基高温摩擦材料的制备工艺。将Ni粉与Al粉按照一定的比例混合均匀，再添加少量的润滑组元MoS2粉和石墨粉，强化组元Cr粉和Mn粉，摩擦组元SiC和CeO2，利用粉末冶金的热压烧结方法制备Ni-Al基摩擦材料。获得具有良好综合性能，同时价格又相对低廉的摩擦材料，使其在室温至1000℃范围内具有稳定摩擦系数和较低磨损率，将其用于高温摩擦材料领域，不仅能满足国内市场的需求，同时也降低生产成本、进一步拓宽了Ni-Al高温合金的应用范围，具有非常好的社会价值和经济价值。本发明制备方法简单、成本低廉、可控性强。
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