基板处理装置及基板处理方法

    公开(公告)号:CN100350559C

    公开(公告)日:2007-11-21

    申请号:CN200410056045.7

    申请日:2004-08-05

    Inventor: 麻籍文

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法,该基板处理装置在机体的基板搬运出入口的相反侧的侧面上设置有透射窗。电离器设置在清洗处理部的透射窗侧的外部。透射窗由聚亚胺类树脂或者丙烯类树脂等构成。从电离器照射的微弱X射线通过透射窗,到达清洗处理部的基板搬运出入口、闸门、旋转紧固件、保护件等。旋转紧固件具有多个导电性固定销。

    基板处理装置及基板处理方法

    公开(公告)号:CN1707751A

    公开(公告)日:2005-12-14

    申请号:CN200410056045.7

    申请日:2004-08-05

    Inventor: 麻籍文

    Abstract: 本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法,该基板处理装置在机体的基板搬运出入口的相反侧的侧面上设置有透射窗。电离器设置在清洗处理部的透射窗侧的外部。透射窗由聚亚胺类树脂或者丙烯类树脂等构成。从电离器照射的微弱X射线通过透射窗,到达清洗处理部的基板搬运出入口、闸门、旋转紧固件、保护件等。旋转紧固件具有多个导电性固定销。

Patent Agency Ranking