公开(公告)号：CN1574221A

公开(公告)日：2005-02-02

申请号：CN200410045947.0

申请日：2004-05-25

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 田中隆史 ,  丰田浩司

IPC: H01L21/027 ,  B05C5/02 ,  B05D1/26 ,  G03F7/30 ,  G03F7/16 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种液体供给装置及基板处理装置，防止向基板供应的处理液中混入其它液体。在液体供给装置(30)上设置狭缝喷嘴(31)；喷嘴管道(32)；三通阀(33)；药液供给部(34)；药液管道(35)；洗涤液供给部(36)；洗涤液管道(37)及排液装置(38)。通过将由洗涤液供给部(36)供应的洗涤液从狭缝喷嘴(31)排出，在显影处理中，将附着并残留在狭缝喷嘴(31)及喷嘴管道(32)等上的显影液洗净。之后，由排液装置(38)将洗涤液从洗涤液管道(37)排液，使洗涤液管道(37)处于空的状态。进一步，控制三通阀(33)，将喷嘴管道(32)与药液管道(35)连通地连接，进行从药液供给部(34)的显影液的供应。

公开(公告)号：CN1322550C

公开(公告)日：2007-06-20

申请号：CN200410045947.0

申请日：2004-05-25

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 田中隆史 ,  丰田浩司

IPC: H01L21/027 ,  B05C5/02 ,  B05D1/26 ,  G03F7/30 ,  G03F7/16 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明提供一种液体供给装置及基板处理装置，防止向基板供应的处理液中混入其它液体。在液体供给装置(30)上设置狭缝喷嘴(31)；喷嘴管道(32)；三通阀(33)；药液供给部(34)；药液管道(35)；洗涤液供给部(36)；洗涤液管道(37)及排液装置(38)。通过将由洗涤液供给部(36)供应的洗涤液从狭缝喷嘴(31)排出，在显影处理中，将附着并残留在狭缝喷嘴(31)及喷嘴管道(32)等上的显影液洗净。之后，由排液装置(38)将洗涤液从洗涤液管道(37)排液，使洗涤液管道(37)处于空的状态。进一步，控制三通阀(33)，将喷嘴管道(32)与药液管道(35)连通地连接，进行从药液供给部(34)的显影液的供应。