公开(公告)号：CN101150047A

公开(公告)日：2008-03-26

申请号：CN200710152835.9

申请日：2007-09-18

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 田中真人

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67028

Abstract: 一种基板处理装置和基板处理方法，该装置包括：板，与基板的一个面隔着间隔而相对配置，在与一个面相对置的对置面形成有多个喷出口和吸引口；冲洗液供给单元，向板的喷出口供给含有纯水的冲洗液；吸引单元，对板的吸引口内进行吸引；干燥促进流体供给单元，将促进基板干燥用的干燥促进流体供给到一个面；基板保持单元，配置在一个面的相反侧、即基板的另一个面侧，保持基板；供给控制单元，控制冲洗液供给单元，从喷出口朝向一个面喷出冲洗液，通过冲洗液使一个面和对置面之间成为液密状态，控制干燥促进流体供给单元，在一个面和对置面之间成为液密状态的状态下，向一个面供给干燥促进流体，将一个面和对置面之间的冲洗液置换为干燥促进流体。