公开(公告)号：CN1226590C

公开(公告)日：2005-11-09

申请号：CN03160220.7

申请日：2003-09-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 堀江正浩 ,  林秀树 ,  北村藤和 ,  赤鹿久美子

IPC: G01B11/06 ,  G01N21/21 ,  G01N21/45

CPC classification number: G01N21/211 ,  G01B11/168 ,  G01N21/9501

Abstract: 本发明提供薄膜厚度测量装置及反射系数测量装置和方法。薄膜厚度测量装置(1)包括：椭圆偏光计(3)，用于获取衬底(9)上薄膜的偏振状态；和光干涉单元(4)，用于获取衬底上薄膜的光谱强度。在光干涉单元的光学系统(45)中，光屏蔽光栅(453a)设置在孔径光阑元件(453)中，来自光源(41)的照明光通过光学系统发射至衬底。来自衬底(9)的反射光导引至光屏蔽光栅成像元件(43)，在此获取光屏蔽光栅的映像。当椭圆偏光计(3)进行薄膜厚度测量时，基于光屏蔽光栅的映像得出衬底的倾斜角，并且光接收单元(32)获得反射光的偏振状态。使用得到的倾斜角由反射光的偏振状态，计算部分(51)高精度地得出薄膜厚度。

公开(公告)号：CN1502969A

公开(公告)日：2004-06-09

申请号：CN03160220.7

申请日：2003-09-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 堀江正浩 ,  林秀树 ,  北村藤和 ,  赤鹿久美子

IPC: G01B11/06 ,  G01N21/21 ,  G01N21/45

CPC classification number: G01N21/211 ,  G01B11/168 ,  G01N21/9501

Abstract: 薄膜厚度测量装置(1)包括：椭圆偏光计(3)，用于获取衬底(9)上薄膜的偏振状态；和光干涉单元(4)，用于获取衬底(9)上薄膜的光谱强度。在光干涉单元(4)的光学系统(45)中，光屏蔽光栅(453a)设置在孔径光阑元件(453)中，来自光源(41)的照明光通过光学系统(45)发射至衬底(9)。来自衬底(9)的反射光导引至光屏蔽光栅成像元件(43)，在此获取光屏蔽光栅(453a)的映像。当椭圆偏光计(3)进行薄膜厚度测量时，基于光屏蔽光栅(453a)的映像得出衬底(9)的倾斜角，并且光接收单元(32)获得反射光的偏振状态。使用得到的倾斜角由反射光的偏振状态，计算部分(51)高精度地得出薄膜厚度。