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公开(公告)号：CN1828826A
公开(公告)日：2006-09-06
申请号：CN200610008690.0
申请日：2006-02-21
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 上代和男
Abstract: 本发明的基板处理装置以及方法进行以下处理：即使在前工序中附有从基板难以除去的处理液的情况下，也能够防止相对于基板而冲洗液逆流到前工序的处理槽中，同时能够减低由残存在基板上的前工序的处理液带来的不良影响。因此，在水洗处理部的处理室中，对搬送中的基板(W)的表面，从入口喷嘴(20)向基板搬送方向下游侧供给冲洗液，通过该水洗处理部也能够防止冲洗液向前工序的处理槽的逆流，同时进行将在前工序中供给的处理液置换为冲洗液的处理。对供给了该冲洗液之后的(W)的表面，从气液流体喷嘴(21)，在与基板搬送方向交叉的基板宽度的整个区域上，供给由气体与液体构成的气液流体，从而除去仍残存在基板表面的前工序的处理液。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101378001B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200810124894.X
申请日：2008-06-25
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能更可靠地防止处理液(雾滴)侵入相邻的处理室。该基板处理装置具有对基板(S)实施药液处理的湿式处理部(2)和对基板(S)实施作为前处理的干式清洗等处理的前处理部(1)。各处理部(1、2)的处理室(10、20)经由开口部(11a)而连通，该开口部(11a)可通过设置在前处理部(1)一侧的闸门装置(14)和设置在湿式处理部(2)一侧的闸门装置(24)进行开闭。此外，在前处理部(1)的处理室(10)内配备有在开口部(11a)处于打开状态时对开口部(11a)向湿式处理部(2)一侧喷出空气的空气喷嘴(19a、19b)。
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公开(公告)号：CN1992153A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200610132006.X
申请日：2006-10-19
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 上代和男
IPC: H01L21/00 , H01L21/306 , G02F1/1333 , C23F4/00
Abstract: 本发明提供一种能够以少量的处理液均匀地处理整个基板上表面的基板处理装置以及基板处理方法。从多孔喷嘴(32)沿基板(W)的旋转方向(A)对基板(W)的上表面从斜上方沿排列方向(X)呈列状地喷出处理液。并且，在以沿基板(W)的旋转半径方向延伸的线为旋转半径线时，以构成着落在基板(W)的上表面的列状处理液的各处理液(液滴)的着落位置从旋转半径线(RL)上起向着与旋转半径线(RL)垂直的偏置方向(Y)偏移规定的距离(S1)的方式，使处理液从多孔喷嘴(32)喷出。另一方面，使处理液从中心处理喷嘴(33)向基板(W)的旋转中心(A0)喷出，向基板(W)的中心部供给处理液。
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公开(公告)号：CN100483617C
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200610132006.X
申请日：2006-10-19
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 上代和男
IPC: H01L21/00 , H01L21/306 , G02F1/1333 , C23F4/00
Abstract: 本发明提供一种能够以少量的处理液均匀地处理整个基板上表面的基板处理装置以及基板处理方法。从多孔喷嘴(32)沿基板(W)的旋转方向(A)对基板(W)的上表面从斜上方沿排列方向(X)呈列状地喷出处理液。并且，在以沿基板(W)的旋转半径方向延伸的线为旋转半径线时，以构成着落在基板(W)的上表面的列状处理液的各处理液(液滴)的着落位置从旋转半径线(RL)上起向着与旋转半径线(RL)垂直的偏置方向(Y)偏移规定的距离(S1)的方式，使处理液从多孔喷嘴(32)喷出。另一方面，使处理液从中心处理喷嘴(33)向基板(W)的旋转中心(A0)喷出，向基板(W)的中心部供给处理液。
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公开(公告)号：CN100378914C
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：CN200610008690.0
申请日：2006-02-21
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
Inventor： 上代和男
Abstract: 本发明的基板处理装置以及方法进行以下处理：即使在前工序中附有从基板难以除去的处理液的情况下，也能够防止相对于基板而冲洗液逆流到前工序的处理槽中，同时能够减低由残存在基板上的前工序的处理液带来的不良影响。因此，在水洗处理部的处理室中，对搬送中的基板(W)的表面，从入口喷嘴(20)向基板搬送方向下游侧供给冲洗液，通过该水洗处理部也能够防止冲洗液向前工序的处理槽的逆流，同时进行将在前工序中供给的处理液置换为冲洗液的处理。对供给了该冲洗液之后的(W)的表面，从气液流体喷嘴(21)，在与基板搬送方向交叉的基板宽度的整个区域上，供给由气体与液体构成的气液流体，从而除去仍残存在基板表面的前工序的处理液。
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公开(公告)号：CN101378001A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810124894.X
申请日：2008-06-25
Applicant: 大日本网目版制造株式会社
IPC: H01L21/00
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，能更可靠地防止处理液(雾滴)侵入相邻的处理室。该基板处理装置具有对基板(S)实施药液处理的湿式处理部(2)和对基板(S)实施作为前处理的干式清洗等处理的前处理部(1)。各处理部(1、2)的处理室(10、20)经由开口部(11a)而连通，该开口部(11a)可通过设置在前处理部(1)一侧的闸门装置(14)和设置在湿式处理部(2)一侧的闸门装置(24)进行开闭。此外，在前处理部(1)的处理室(10)内配备有在开口部(11a)处于打开状态时对开口部(11a)向湿式处理部(2)一侧喷出空气的空气喷嘴(19a、19b)。
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