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公开(公告)号：CN1350016A
公开(公告)日：2002-05-22
申请号：CN01137501.9
申请日：2001-10-25
Applicant: 大日本油墨化学工业株式会社
IPC: C08G18/00 , C09J175/04
CPC classification number: C09J175/06 , C08G18/0828 , C08G18/12 , C08G18/4202 , C08G18/4676 , C08G18/706 , C08G2170/80 , C08G18/3246
Abstract: 本发明公开了一种聚氨酯树脂水分散体,由以下化合物得到:(A)有机多异氰酸酯;(B)包含芳族金属磺酸根基团的聚酯多元醇;(C)没有芳族金属磺酸根且羟基值为10－350的脂族多元醇;和(D)至少一种分子量分别为300或更低的多元胺和多元醇,其中所述脂族多元醇单元(C)的含量至少为基于所述聚氨酯树脂的固体含量的55%重量。本发明还公开了一种包含所述聚氨酯树脂水分散体的含水粘合剂。
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公开(公告)号：CN1272864A
公开(公告)日：2000-11-08
申请号：CN99800881.8
申请日：1999-05-27
Applicant: 克拉瑞特国际有限公司 , 大日本油墨化学工业株式会社
IPC: C09D5/00 , C09D133/08 , C09D139/06 , G03F7/11 , H01L21/30
Abstract: 本发明公开了一种减少反射涂层组合物,其包含(A)由通式CnF2n+1SO3H表示的全氟烷基磺酸,其中,n为整数4～8,(B)有机胺,(C)水溶性聚合物,(D)由通式CnF2n+1SO2NH2表示的全氟烷基磺酰胺,其中,n为整数1～8和(E)水,组合物的pH值为1.3～3.3。通过在基片上形成的光致抗蚀剂膜上涂敷所述组合物而获得抗蚀剂图案以形成减少反射的涂层,然后进行曝光和显影。这种用于减少反射涂层的组合物可均匀涂敷于光致抗蚀剂膜上,而与抗蚀剂的类型及基片的表面形状无关,可采用该组合物以提供不存在曝光后随时间变化而引起的驻波影响、多重反射作用和T型图案及尺寸变化等缺陷的抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：CN1189496C
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：CN01137501.9
申请日：2001-10-25
Applicant: 大日本油墨化学工业株式会社
IPC: C08G18/00 , C09J175/04
CPC classification number: C09J175/06 , C08G18/0828 , C08G18/12 , C08G18/4202 , C08G18/4676 , C08G18/706 , C08G2170/80 , C08G18/3246
Abstract: 本发明公开了一种聚氨酯树脂水分散体，由以下化合物得到：(A)有机多异氰酸酯；(B)包含芳族金属磺酸根基团的聚酯多元醇；(C)没有芳族金属磺酸根且羟基值为10-350的脂族多元醇；和(D)至少一种分子量分别为300或更低的多元胺和多元醇，其中所述脂族多元醇单元(C)的含量至少为基于所述聚氨酯树脂的固体含量的55%重量。本发明还公开了一种包含所述聚氨酯树脂水分散体的含水粘合剂。
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公开(公告)号：CN1169884C
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN99800881.8
申请日：1999-05-27
Applicant: 克拉瑞特金融(BVI)有限公司 , 大日本油墨化学工业株式会社
IPC: C09D5/00 , C09D133/08 , C09D139/06 , G03F7/11 , H01L21/30
Abstract: 本发明公开了一种减少反射涂层组合物，其包含(A)由通式CnF2n+1SO3H表示的全氟烷基磺酸，其中，n为整数4～8，(B)有机胺，(C)水溶性聚合物，(D)由通式CnF2n+1SO2NH2表示的全氟烷基磺酰胺，其中，n为整数1～8和(E)水，组合物的pH值为1.3～3.3。通过在基片上形成的光致抗蚀剂膜上涂敷所述组合物而获得抗蚀剂图案以形成减少反射的涂层，然后进行曝光和显影。这种用于减少反射涂层的组合物可均匀涂敷于光致抗蚀剂膜上，而与抗蚀剂的类型及基片的表面形状无关，可采用该组合物以提供不存在曝光后随时间变化而引起的驻波影响、多重反射作用和T型图案及尺寸变化等缺陷的抗蚀剂图案。
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