公开(公告)号：CN1469113A

公开(公告)日：2004-01-21

申请号：CN03136395.4

申请日：2003-06-04

Applicant: 大日本屏影象制造株式会社

Inventor： 井根英一

IPC: G01N21/88 ,  G06F9/06

CPC classification number: G06K9/00 ,  G06K2209/19 ,  G06T7/001 ,  G06T2207/30141

Abstract: 参考掩模产生部分、检查掩模产生部分、缺陷探测部分，被排列在缺陷探测装置的控制部分内。根据拍摄的检查目标衬底的图象(检查图象数据)，检查掩模产生部分对待要检查的焊接区图形执行轮廓匀平处理，并借助于用由参考掩模产生部分产生的参考掩模数据进行逻辑OR而产生检查掩模数据。根据这样产生的检查掩模数据，检查图象数据被检查。而且，缺陷探测部分对先前探测的某些缺陷执行区域接合处理。在各个微观缺陷聚集形成缺陷的情况下，缺陷探测部分将它们探测为缺陷，然后产生缺陷数据。因此，抑制了衬底上缺陷的遗漏，同时高速执行图象处理。

公开(公告)号：CN1265190C

公开(公告)日：2006-07-19

申请号：CN03136395.4

申请日：2003-06-04

Applicant: 大日本屏影象制造株式会社

Inventor： 井根英一

IPC: G01N21/88 ,  G06F9/06

CPC classification number: G06K9/00 ,  G06K2209/19 ,  G06T7/001 ,  G06T2207/30141

Abstract: 参考掩模产生部分、检查掩模产生部分、缺陷探测部分，被排列在缺陷探测装置的控制部分内。根据拍摄的检查目标衬底的图象(检查图象数据)，检查掩模产生部分对待要检查的焊接区图形执行轮廓匀平处理，并借助于用由参考掩模产生部分产生的参考掩模数据进行逻辑OR而产生检查掩模数据。根据这样产生的检查掩模数据，检查图象数据被检查。而且，缺陷探测部分对先前探测的某些缺陷执行区域接合处理。在各个微观缺陷聚集形成缺陷的情况下，缺陷探测部分将它们探测为缺陷，然后产生缺陷数据。因此，抑制了衬底上缺陷的遗漏，同时高速执行图象处理。