蒸发源
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104603321A

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201380044630.2

    申请日:2013-08-09

    CPC classification number: C23C14/243

    Abstract: 提供蒸发源,其使接触所导致的热变动的影响难以波及蒸镀材料,能够使蒸镀材料的温度分布均匀化,能够实现蒸镀材料蒸发量的稳定化。蒸发源包含如下部分:坩埚(2),其中可填充蒸镀材料(1);加热部(3),其被设成包围该坩埚(2);和收纳体(4),其收纳并配置所述坩埚(2)和所述加热部(3),该蒸发源的构成中:在所述坩埚(2)的外侧面上比所述蒸镀材料(1)的填充面(1a)高且比坩埚(2)的开口位置低的位置设置坩埚承载部(5),利用设于所述收纳体(4)的内侧的坩埚支持部(6)支承所述坩埚承载部(5),能够在所述坩埚(2)的外底面与所述收纳体(4)的内底面分开的状态下,将所述坩埚(2)收纳并配置于所述收纳体(4)内。

    蒸发源装置、蒸镀装置及蒸发源装置的控制方法

    公开(公告)号:CN113699487B

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202110549052.4

    申请日:2021-05-20

    Abstract: 本发明涉及蒸发源装置、蒸镀装置及蒸发源装置的控制方法,提供一种能够使蒸镀速率在蒸镀时长期稳定的技术。一种蒸发源装置,具备:容器,所述容器收容有蒸镀材料;加热部件,所述加热部件具有第一加热部和第二加热部,所述第一加热部对容器的包含有蒸镀材料的放出口的上部区域进行加热,所述第二加热部对容器的包含有底部的下部区域进行加热;以及控制部件,所述控制部件控制加热部件的加热输出,其特征在于,相对于蒸镀期间中的第一时间点的第一加热部的加热输出,控制部件使蒸镀期间中的比第一时间点靠后的第二时间点的第一加热部的加热输出增大。

    成膜装置和成膜方法
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115537733A

    公开(公告)日:2022-12-30

    申请号:CN202210710422.2

    申请日:2022-06-22

    Abstract: 本发明提供对相对地移动的基板均匀地成膜的成膜装置和成膜方法。成膜装置具备:成膜单元,对在移动方向上相对地移动的基板进行成膜;以及调整部件,调整基板与掩模的位置关系。成膜单元包括分别包含放出蒸镀物质的至少一个蒸发源的第一单元以及第二单元。在通过调整部件使掩模与基板的第一区域重合的第一状态和通过调整部件使掩模与基板的第二区域重合的第二状态中的任一状态下,进行基于第一单元的成膜以及基于第二单元的成膜。

    蒸发源单元、成膜装置以及成膜方法

    公开(公告)号:CN116516295A

    公开(公告)日:2023-08-01

    申请号:CN202310073900.8

    申请日:2023-01-18

    Abstract: 本发明涉及蒸发源单元、成膜装置以及成膜方法。抑制从蒸发源放出的蒸镀物质的放出状态的监视精度降低。蒸发源单元对在移动方向上相对移动的基板进行成膜。多个蒸发源相互独立地具有容器和对收容于容器的蒸镀物质进行加热的加热构件。多个监视构件分别监视来自多个蒸发源中的对应的蒸发源的蒸镀物质的放出状态。多个蒸发源包括在蒸发源单元相对于基板的相对移动方向上排列配置的第一蒸发源和第二蒸发源。多个监视构件包括监视来自第一蒸发源的蒸镀物质的放出状态的第一监视构件和监视来自第二蒸发源的蒸镀物质的放出状态的第二监视构件。第一监视构件和第二监视构件在与移动方向交叉的交叉方向上排列配置。

    蒸发源装置、蒸镀装置及蒸发源装置的控制方法

    公开(公告)号:CN113699487A

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN202110549052.4

    申请日:2021-05-20

    Abstract: 本发明涉及蒸发源装置、蒸镀装置及蒸发源装置的控制方法,提供一种能够使蒸镀速率在蒸镀时长期稳定的技术。一种蒸发源装置,具备:容器,所述容器收容有蒸镀材料;加热部件,所述加热部件具有第一加热部和第二加热部,所述第一加热部对容器的包含有蒸镀材料的放出口的上部区域进行加热,所述第二加热部对容器的包含有底部的下部区域进行加热;以及控制部件,所述控制部件控制加热部件的加热输出,其特征在于,相对于蒸镀期间中的第一时间点的第一加热部的加热输出,控制部件使蒸镀期间中的比第一时间点靠后的第二时间点的第一加热部的加热输出增大。

    蒸发源
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104603321B

    公开(公告)日:2016-10-26

    申请号:CN201380044630.2

    申请日:2013-08-09

    CPC classification number: C23C14/243

    Abstract: 提供蒸发源,其使接触所导致的热变动的影响难以波及蒸镀材料,能够使蒸镀材料的温度分布均匀化,能够实现蒸镀材料蒸发量的稳定化。蒸发源包含如下部分:坩埚(2),其中可填充蒸镀材料(1);加热部(3),其被设成包围该坩埚(2);和收纳体(4),其收纳并配置所述坩埚(2)和所述加热部(3),该蒸发源的构成中:在所述坩埚(2)的外侧面上比所述蒸镀材料(1)的填充面(1a)高且比坩埚(2)的开口位置低的位置设置坩埚承载部(5),利用设于所述收纳体(4)的内侧的坩埚支持部(6)支承所述坩埚承载部(5),能够在所述坩埚(2)的外底面与所述收纳体(4)的内底面分开的状态下,将所述坩埚(2)收纳并配置于所述收纳体(4)内。

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