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公开(公告)号：CN115572942A
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202210702316.X
申请日：2022-06-21
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明涉及掩模的制造方法和掩模。掩模可以具备：在第1方向上相向的第1端部和第2端部；和位于第1端部与第2端部之间并包含贯通孔组的中间部。掩模的制造方法可以具备：中间部形成步骤，在基材形成中间部的外缘和贯通孔组；第1端部形成步骤，在基材形成第1端部的外缘；和第2端部形成步骤，在基材形成第2端部的外缘。中间部形成步骤可以包含：使用第1曝光掩模将基材上的抗蚀剂层曝光的工艺；和经由被曝光和显影的抗蚀剂层对基材进行蚀刻的工艺。第1端部形成步骤可以包含：使用第2曝光掩模将基材上的抗蚀剂层曝光的工艺；和经由被曝光和显影的上述抗蚀剂层对基材进行蚀刻的工艺。或者，第1端部形成步骤可以包含使用激光加工基材的工艺。
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公开(公告)号：CN218146905U
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202221559728.4
申请日：2022-06-21
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本实用新型涉及掩模。掩模可以具备：基材，包含沿第1方向延伸的第1侧缘和第2侧缘并包含第1面和第2面；和贯通孔组，贯通基材。在俯视时，掩模可以具备：在上述第1方向上相向的第1端部和第2端部；和位于第1端部与第2端部之间并包含贯通孔组的中间部。第1侧缘可以包含位于第1端部与中间部的边界并在与第1方向正交的第2方向上位移的第1台阶部。第2方向上的第1台阶部的尺寸可以为1mm以下。第1端部可以包含位于第1面或第2面的第1标记。
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