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公开(公告)号：CN102985498B
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201180033863.3
申请日：2011-08-04
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: C09D7/1275 , B32B23/08 , C08J7/047 , C08J2301/12 , C09D7/61 , C09D7/68 , G02B5/30 , G02B5/3033
Abstract: 本发明提供一种硬度较高、具有充分的耐粘连性、雾度较低、且全光线透射率也较高的HC薄膜。本发明涉及一种硬涂层用固化性树脂组合物，其特征为含有：(A)于粒子表面上具有光固化性基，且平均1次粒径为10～100nm的反应性二氧化硅微粒；(B)平均1次粒径为100～300nm的易滑剂；(C)含有该易滑剂(B)，且平均2次粒径为500nm～2000nm的2次粒子；(D)于1分子中具有2个以上的具有与上述反应性二氧化硅微粒(A)的光固化性基的交联反应性的反应性官能基，且分子量为1000以下的多官能单体；以及(E)溶剂；并且不含有平均2次粒径大于2000nm的2次粒子，且相对于该反应性二氧化硅微粒(A)及多官能单体(D)的合计质量，含有该易滑剂(B)0.2～8质量％。
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公开(公告)号：CN102667535B
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：CN201080048045.6
申请日：2010-11-15
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B1/12 , C08J7/045 , C08J2301/12 , C08J2433/16 , G02B1/11
Abstract: 本发明目的在于提供生产率优异，并抑制在硬涂层与硬涂层的与基材侧所邻接的层之间发生干涉纹的现象，且视觉辨认度优异的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法的特征在于包括：准备透光性基材的步；准备第一组合物和第二组合物的步骤，其中所述第一组合物含有第一树脂和第一溶剂且不含低折射率成分或即便含有低折射率成分其含量相对于第一树脂的质量为5.0质量％以下，该第一树脂组合物的粘度μ1为3mPa·s以上，所述第二组合物含有低折射率成分、第二树脂和第二溶剂，该第二组合物的粘度μ2为5mPa·s以上，并且μ2与μ1之差为30mPa·s以下；在该透光性基材的一面侧，从该透光性基材一侧开始至少使该第一组合物和第二组合物相邻接而同时涂布，制作涂膜的步骤；将上述涂膜干燥，接着进行光照射或加热，使之固化的步骤，并且在该干燥之前不进行预固化。
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公开(公告)号：CN102667535A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080048045.6
申请日：2010-11-15
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: G02B1/12 , C08J7/045 , C08J2301/12 , C08J2433/16 , G02B1/11
Abstract: 本发明目的在于提供生产率优异，并抑制在硬涂层与硬涂层的与基材侧所邻接的层之间发生干涉纹的现象，且视觉辨认度优异的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法的特征在于包括：准备透光性基材的步；准备第一组合物和第二组合物的步骤，其中所述第一组合物含有第一树脂和第一溶剂且不含低折射率成分或即便含有低折射率成分其含量相对于第一树脂的质量为5.0质量％以下，该第一树脂组合物的粘度μ1为3mPa·s以上，所述第二组合物含有低折射率成分、第二树脂和第二溶剂，该第二组合物的粘度μ2为5mPa·s以上，并且μ2与μ1之差为30mPa·s以下；在该透光性基材的一面侧，从该透光性基材一侧开始至少使该第一组合物和第二组合物相邻接而同时涂布，制作涂膜的步骤；将上述涂膜干燥，接着进行光照射或加热，使之固化的步骤，并且在该干燥之前不进行预固化。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102667534B
公开(公告)日：2014-11-05
申请号：CN201080051681.4
申请日：2010-11-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/10 , B05D1/34 , B05D5/06 , B32B7/02 , B32B23/08 , B32B27/20 , B32B27/30 , G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335 , G09F9/00
CPC classification number: B29D11/00644 , B05D1/34 , C08J7/047 , C08J2301/12 , C08J2433/06 , G02B3/0087 , G02B5/305 , G02F1/133528 , G02F2201/38 , G02F2201/50 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , G02F2202/40
Abstract: 本发明以更加容易、且高生产率提供具备折射率倾斜硬涂层的光学薄膜为目的。本发明的光学薄膜的制造方法，其特征为包含：(i)准备透光性基材的工序；(ii)准备含有第一粘合剂成分及第一溶剂、不含有高折射率微粒且粘度为3～100mPa·s的第一硬涂层用固化性树脂组合物，以及含有平均粒径1～100nm的高折射率微粒、第二粘合剂成分及第二溶剂且粘度为10～100mPa·s的第二硬涂层用固化性树脂组合物的工序；(iii)在所述透光性基材的一侧，从所述透光性基材侧开始，以使所述第一硬涂层用固化性树脂组合物及所述第二硬涂层用固化性树脂组合物邻接，且所述第一硬涂层用固化性树脂组合物比所述第二硬涂层用固化性树脂组合物更靠近所述透光性基材侧的方式进行同时涂布，来制作涂膜的工序；以及(iv)对所述(iii)工序中得到的涂膜进行光照射使之固化，形成折射率倾斜硬涂层的工序。
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公开(公告)号：CN103013205A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210357183.3
申请日：2008-10-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: C09D5/00 , C08K3/36 , C08K9/04 , C09D5/28 , C09D7/61 , C09D7/67 , Y10T428/24372 , Y10T428/24405 , Y10T428/24413 , Y10T428/24421 , Y10T428/24893 , Y10T428/249921 , Y10T428/25 , Y10T428/254 , Y10T428/257 , Y10T428/259 , Y10T428/269
Abstract: 本发明涉及硬涂层用固化性树脂组合物和硬涂膜。本发明提供在不损害透明性和耐擦伤性的条件下在硬涂层表面形成所期望的凹凸形状的硬涂膜。该硬涂膜是将硬涂层用固化性树脂组合物涂布在透明基材膜上，并使其干燥、固化，优选在硬涂层表面形成凸部高度大于3nm且为50nm以下、凸部之间的间隔为50nm～5μm的凹凸的硬涂膜，其中所述硬涂层用固化性树脂组合物含有(1)平均一次粒径为5nm～80nm、至少表面的一部分被有机成分被覆、表面上具有通过该有机成分导入的反应性官能团a的反应性无机微粒A，(2)平均一次粒径为100nm～300nm的亲水性微粒B，(3)固化反应性基质，该固化反应性基质含有具有反应性官能团c的粘合剂成分C，所述反应性官能团c与前述反应性无机微粒A的反应性官能团a具有交联反应性，前述亲水性微粒B的含量相对于总固体成分为0.1～5.0重量％。
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公开(公告)号：CN102985498A
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN201180033863.3
申请日：2011-08-04
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: C09D7/1275 , B32B23/08 , C08J7/047 , C08J2301/12 , C09D7/61 , C09D7/68 , G02B5/30 , G02B5/3033
Abstract: 本发明提供一种硬度较高、具有充分的耐粘连性、雾度较低、且全光线透射率也较高的HC薄膜。本发明涉及一种硬涂层用固化性树脂组合物，其特征为含有：(A)于粒子表面上具有光固化性基，且平均1次粒径为10～100nm的反应性二氧化硅微粒；(B)平均1次粒径为100～300nm的易滑剂；(C)含有该易滑剂(B)，且平均2次粒径为500nm～2000nm的2次粒子；(D)于1分子中具有2个以上的具有与上述反应性二氧化硅微粒(A)的光固化性基的交联反应性的反应性官能基，且分子量为1000以下的多官能单体；以及(E)溶剂；并且不含有平均2次粒径大于2000nm的2次粒子，且相对于该反应性二氧化硅微粒(A)及多官能单体(D)的合计质量，含有该易滑剂(B)0.2～8质量％。
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公开(公告)号：CN103013205B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201210357183.3
申请日：2008-10-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
CPC classification number: C09D5/00 , C08K3/36 , C08K9/04 , C09D5/28 , C09D7/61 , C09D7/67 , Y10T428/24372 , Y10T428/24405 , Y10T428/24413 , Y10T428/24421 , Y10T428/24893 , Y10T428/249921 , Y10T428/25 , Y10T428/254 , Y10T428/257 , Y10T428/259 , Y10T428/269
Abstract: 本发明涉及硬涂层用固化性树脂组合物和硬涂膜。本发明提供在不损害透明性和耐擦伤性的条件下在硬涂层表面形成所期望的凹凸形状的硬涂膜。该硬涂膜是将硬涂层用固化性树脂组合物涂布在透明基材膜上，并使其干燥、固化，优选在硬涂层表面形成凸部高度大于3nm且为50nm以下、凸部之间的间隔为50nm～5μm的凹凸的硬涂膜，其中所述硬涂层用固化性树脂组合物含有(1)平均一次粒径为5nm～80nm、至少表面的一部分被有机成分被覆、表面上具有通过该有机成分导入的反应性官能团a的反应性无机微粒A，(2)平均一次粒径为100nm～300nm的亲水性微粒B，(3)固化反应性基质，该固化反应性基质含有具有反应性官能团c的粘合剂成分C，所述反应性官能团c与前述反应性无机微粒A的反应性官能团a具有交联反应性，前述亲水性微粒B的含量相对于总固体成分为0.1～5.0重量％。
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公开(公告)号：CN102667534A
公开(公告)日：2012-09-12
申请号：CN201080051681.4
申请日：2010-11-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: G02B1/10 , B05D1/34 , B05D5/06 , B32B7/02 , B32B23/08 , B32B27/20 , B32B27/30 , G02B1/11 , G02B5/30 , G02F1/1335 , G09F9/00
CPC classification number: B29D11/00644 , B05D1/34 , C08J7/047 , C08J2301/12 , C08J2433/06 , G02B3/0087 , G02B5/305 , G02F1/133528 , G02F2201/38 , G02F2201/50 , G02F2202/023 , G02F2202/36 , G02F2202/40
Abstract: 本发明以更加容易、且高生产率提供具备折射率倾斜硬涂层的光学薄膜为目的。本发明的光学薄膜的制造方法，其特征为包含：(i)准备透光性基材的工序；(ii)准备含有第一粘合剂成分及第一溶剂、不含有高折射率微粒且粘度为3～100mPa·s的第一硬涂层用固化性树脂组合物，以及含有平均粒径1～100nm的高折射率微粒、第二粘合剂成分及第二溶剂且粘度为10～100mPa·s的第二硬涂层用固化性树脂组合物的工序；(iii)在所述透光性基材的一侧，从所述透光性基材侧开始，以使所述第一硬涂层用固化性树脂组合物及所述第二硬涂层用固化性树脂组合物邻接，且所述第一硬涂层用固化性树脂组合物比所述第二硬涂层用固化性树脂组合物更靠近所述透光性基材侧的方式进行同时涂布，来制作涂膜的工序；以及(iv)对所述(iii)工序中得到的涂膜进行光照射使之固化，形成折射率倾斜硬涂层的工序。
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