公开(公告)号：CN114345825B

公开(公告)日：2023-08-22

申请号：CN202111190370.2

申请日：2021-10-13

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 德永圭治 ,  中村友祐 ,  小幡胜也

IPC: B08B3/12 ,  B08B13/00

Abstract: 本发明涉及掩模的清洗方法、清洗液、清洗装置、以及有机器件的制造方法。一种对掩模进行清洗的清洗方法，其具备通过使清洗液与掩模接触而对掩模进行清洗的清洗工序。清洗液包含碘化钾和碘。清洗液的温度小于25℃。

公开(公告)号：CN114345825A

公开(公告)日：2022-04-15

申请号：CN202111190370.2

申请日：2021-10-13

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 德永圭治 ,  中村友祐 ,  小幡胜也

IPC: B08B3/12 ,  B08B13/00

Abstract: 本发明涉及掩模的清洗方法、清洗液、清洗装置、以及有机器件的制造方法。一种对掩模进行清洗的清洗方法，其具备通过使清洗液与掩模接触而对掩模进行清洗的清洗工序。清洗液包含碘化钾和碘。清洗液的温度小于25℃。