通孔激光加工方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113305455A

    公开(公告)日:2021-08-27

    申请号:CN202110590856.9

    申请日:2021-05-28

    Abstract: 本发明公开了一种通孔激光加工方法,包括步骤:将工件固定到加工位置;设置激光切割头的加工参数;确定待加工通孔的位置轮廓;选取所述轮廓内的点,控制激光进行脉冲穿孔;控制激光从所述加工点移动至所述轮廓上,并沿着所述轮廓进行切割。本发明首先对工件进行激光穿孔以便于后续切割排渣,然后再利用激光对待加工通孔的轮廓的轨迹进行切割,有效地提高了针对硬质材料进行通孔加工的切割效率。

    陶瓷制品表面的镭射加工方法及陶瓷制品

    公开(公告)号:CN108788482A

    公开(公告)日:2018-11-13

    申请号:CN201810636328.0

    申请日:2018-06-20

    Abstract: 本发明涉及一种陶瓷制品表面的镭射加工方法及陶瓷制品。陶瓷制品表面的镭射加工方法,包括以下步骤:对陶瓷制品的加工表面进行清洁;采用超快激光器对陶瓷制品的加工表面进行镭射雕刻得到预先设计的图案:采用单脉冲方式,以800mm/s‑1200mm/s的打标速度进行粗雕;采用多脉冲方式,以50mm/s‑300mm/s的打标速度进行精雕;所述超快激光器的波长为1030nm‑1064nm,脉宽为5ps‑25ps,填充距离为0.005mm‑0.1mm,镭射功率为10%‑40%;由上述方法进行表面处理后的陶瓷制品,所述陶瓷制品加工表面上图案的加工深度为3.1um‑7.8um;可使加工深度达到微米级,使加工深度更浅,陶瓷制品表面触摸手感好。

    陶瓷制品表面的镭射加工方法及陶瓷制品

    公开(公告)号:CN108788482B

    公开(公告)日:2021-01-26

    申请号:CN201810636328.0

    申请日:2018-06-20

    Abstract: 本发明涉及一种陶瓷制品表面的镭射加工方法及陶瓷制品。陶瓷制品表面的镭射加工方法,包括以下步骤:对陶瓷制品的加工表面进行清洁;采用超快激光器对陶瓷制品的加工表面进行镭射雕刻得到预先设计的图案:采用单脉冲方式,以800mm/s‑1200mm/s的打标速度进行粗雕;采用多脉冲方式,以50mm/s‑300mm/s的打标速度进行精雕;所述超快激光器的波长为1030nm‑1064nm,脉宽为5ps‑25ps,填充距离为0.005mm‑0.1mm,镭射功率为10%‑40%;由上述方法进行表面处理后的陶瓷制品,所述陶瓷制品加工表面上图案的加工深度为3.1um‑7.8um;可使加工深度达到微米级,使加工深度更浅,陶瓷制品表面触摸手感好。

    基于超快激光的陶瓷基板划片加工方法及系统

    公开(公告)号:CN115401337B

    公开(公告)日:2024-08-30

    申请号:CN202110606525.X

    申请日:2021-05-28

    Abstract: 本发明涉及激光加工技术领域,具体涉及一种基于超快激光的陶瓷基板划片加工方法及系统。所述方法包括:将超快激光的焦点位置调整至位于陶瓷基板的第一表面,在第一表面上加工视觉定位标识;根据第一激光加工参数和划片图档在第一表面上进行划片处理,以生成第一裂痕组合;对陶瓷基板进行翻面,将超快激光的焦点位置调整至位于陶瓷基板待划片的第二表面;令视觉系统根据视觉定位标识定位第二表面上与第一裂痕组合对应的坐标信息;根据第二激光加工参数和坐标信息在第二表面上进行划片处理,以生成第二裂痕组合。本发明避免了陶瓷基板双面划片过程中产生微裂纹,减小了边缘锯齿,提高了划片效率。

    基于超快激光的陶瓷基板划片加工方法及系统

    公开(公告)号:CN115401337A

    公开(公告)日:2022-11-29

    申请号:CN202110606525.X

    申请日:2021-05-28

    Abstract: 本发明涉及激光加工技术领域,具体涉及一种基于超快激光的陶瓷基板划片加工方法及系统。所述方法包括:将超快激光的焦点位置调整至位于陶瓷基板的第一表面,在第一表面上加工视觉定位标识;根据第一激光加工参数和划片图档在第一表面上进行划片处理,以生成第一裂痕组合;对陶瓷基板进行翻面,将超快激光的焦点位置调整至位于陶瓷基板待划片的第二表面;令视觉系统根据视觉定位标识定位第二表面上与第一裂痕组合对应的坐标信息;根据第二激光加工参数和坐标信息在第二表面上进行划片处理,以生成第二裂痕组合。本发明避免了陶瓷基板双面划片过程中产生微裂纹,减小了边缘锯齿,提高了划片效率。

    一种利用激光加工耳机泄压孔的方法

    公开(公告)号:CN113695768A

    公开(公告)日:2021-11-26

    申请号:CN202010437623.0

    申请日:2020-05-21

    Abstract: 本发明提供了一种利用激光加工耳机泄压孔的方法,包括以下步骤:产品准备,获得待加工泄压孔的耳机外壳;软件设计,通过制图软件绘制泄压孔的孔径和打孔方式并制成加工文件输送至激光镭雕机中;孔位加工,激光镭雕机采用加工文件上所设定的打孔方式对耳机外壳进行至少一次的激光镭雕,激光镭雕机采用紫外纳秒激光器、光学聚焦镜以及高速扫描振镜。通过本发明所提供的利用激光加工耳机泄压孔的方法所制得的泄压孔的孔径最小可以精确到0.05mm,并且采用波长为355nm的紫外纳秒激光器制作的泄压孔的加工性能稳定性好、性价比高、加工热影响小,本发明所提供的加工方法更加简单快速、成本低、能耗低、无污染、精度高。

    晶片回收控制方法、装置及晶片回收设备

    公开(公告)号:CN119387239A

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202411511491.6

    申请日:2024-10-28

    Inventor: 郑强 龙明昇 廖文

    Abstract: 本申请公开一种晶片回收控制方法、装置及晶片回收设备,该晶片回收控制方法采用高精度的视觉定位和激光高温熔化的方式,可对针脚上的贵金属进行精准去除,使用超快激光加工的可靠性和一致性较好。加工过程不用接触晶片和晶片上的引脚,可以防止操作过程中对晶片的损伤,提升成品率。通过配合视觉定位和加工平台,还可按需求进行连续自动化生产,在保证质量的情况下提升效率。

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