带取向膜基板的制造方法

    公开(公告)号:CN110231737B

    公开(公告)日:2022-09-27

    申请号:CN201910168183.0

    申请日:2019-03-06

    Abstract: 本发明提供一种带取向膜基板的制造方法,该带取向膜基板在长期间使用中折射率各向异性的变化小,能够维持高折射率各向异性。带取向膜基板的制造方法具有:涂膜形成工序,在基板的表面涂布含有在主链具有偶氮苯基的第一高分子的取向膜组合物,形成涂膜;以及加热曝光工序,在60~80℃下加热上述基板并对上述涂膜照射光,优选在上述加热曝光工序中照射320~500nm的波长区域的光。

    具备光取向膜的基板的制造方法

    公开(公告)号:CN110824780A

    公开(公告)日:2020-02-21

    申请号:CN201910703494.2

    申请日:2019-07-31

    Inventor: 谷池康司郎

    Abstract: 本发明提供一种一边抑制制造效率的降低一边增大折射率各向异性的具备光取向膜的基板的制造方法。本发明的具备光取向膜的基板的制造方法包括:步骤(A),在基板的表面上形成光取向膜材料的膜,所述光取向膜材料包括含有光官能团的高分子;步骤(B),偏振转换发光二极管灯的出射光而照射所述步骤(A)中所形成的所述膜;步骤(C),偏振转换金属卤化物灯的出射光而照射所述步骤(B)中偏振光照射后的所述膜。

    液晶单元、液晶显示装置及液晶单元的制造方法

    公开(公告)号:CN109328320B

    公开(公告)日:2021-08-03

    申请号:CN201780037845.X

    申请日:2017-06-16

    Abstract: 本发明的液晶单元包括彼此相向且在至少一侧的对向面上具有光取向膜的一对基板、与介于所述基板之间的液晶层,该液晶单元的特征在于:所述光取向膜含有以聚酰胺酸为主链的聚合物,该聚酰胺酸由具有弯曲构造的四羧酸二酐与具有偶氮苯基的二胺化合物聚合而成,所述液晶层含有具有不饱和键的第一液晶化合物、与包含选自包含由下述化学式(1‑1)及化学式(1‑2)表示的构造的群的至少一个构造的第二液晶化合物,且向列‑各向同性相转移温度为90℃以上。(式1‑1)及(式1‑2)(式中,n为1~3的整数)。

    液晶显示装置及液晶显示装置的制造方法

    公开(公告)号:CN110320718A

    公开(公告)日:2019-10-11

    申请号:CN201910234386.5

    申请日:2019-03-26

    Abstract: 本发明提供接触孔的大小被抑制得小、且抑制了取向膜的膜厚不均的液晶显示装置及液晶显示装置的制造方法。本发明的液晶显示装置是具备薄膜晶体管基板的液晶显示装置,上述薄膜晶体管基板具备:配置在漏极电极上并设置有接触孔的有机绝缘膜、和配置在上述有机绝缘膜上的像素电极,上述接触孔沿周向依次具有第一、第二、第三及第四侧壁部,上述第二侧壁部的上部的倾斜比上述第一及第三侧壁部各自的上部的倾斜平缓,若将特定的直线(第一直线)上的从上述第一侧壁部的上端至上述第三侧壁部的上端的距离设为L,将与上述第一直线平行的第三直线上的上述第二侧壁部的一个上端和另一个上端之间的最大距离设为W2,则上述接触孔满足W2>L。

    基板处理装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110007491A

    公开(公告)日:2019-07-12

    申请号:CN201811494729.3

    申请日:2018-12-07

    Inventor: 谷池康司郎

    Abstract: 本发明的基板处理装置能够将进行了取向处理后的液晶用基板,在整个液晶用基板上覆盖有预处理材料薄膜的状态下搬送到清洗工序。对取向处理后的液晶用基板(20)进行清洗处理的基板处理装置(10)中,覆膜处理槽(11)具有对由搬送装置(15)搬入的液晶用基板(20)的取向处理面(20A)供给预处理材料(21)的第一供给装置(17),该第一供给装置(17)在向搬送方向的下游侧倾斜的状态下供给预处理材料(21),使其成为在沿着取向处理面(20A)且与搬送方向正交的方向上扩散的帘状,在覆膜处理槽(11)中的第一供给装置(17)的搬送方向的下游侧设有第二供给装置(18),对取向处理面(20A)的至少一部分供给预处理材料(21)。

    摩擦处理方法、液晶面板的制造方法及光学膜的制造方法

    公开(公告)号:CN111522177B

    公开(公告)日:2022-11-15

    申请号:CN202010077530.1

    申请日:2020-01-30

    Abstract: 提供能实现均匀的摩擦状态并具有稳定性的摩擦处理方法、液晶面板的制造方法、光学膜的制造方法。一种摩擦处理方法,一边使具有与被摩擦物(20)的被摩擦面平行的旋转轴(12C、13C)、在圆柱状的辊芯(12A、13A)的外周具有摩擦布(12B、13B)的摩擦辊(12、13)旋转,一边使上述摩擦布(12B、13B)擦拭上述被摩擦面,在上述摩擦处理方法中,上述摩擦辊(12、13)的转速是基于上述辊芯(12A、13A)的材质而设定的。

    液晶用基板的制造方法和液晶用基板的处理装置

    公开(公告)号:CN110596958B

    公开(公告)日:2022-03-08

    申请号:CN201910501970.2

    申请日:2019-06-11

    Inventor: 谷池康司郎

    Abstract: 一种液晶用基板的制造方法和液晶用基板的处理装置,不降低取向处理效果,并实现高的清洗力。液晶用基板的制造方法包含在对基板(20)进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理之后对上述基板(20)进行清洗处理的清洗工序,在上述清洗工序中,当上述基板(20)由沿着上述基板(20)的搬运方向流动的水系清洗材料进行清洗时,在上述基板(20)的摩擦处理方向与上述搬运方向交叉的情况下,上述水系清洗材料的供应压力被调整为小于在上述基板(20)的摩擦处理方向与上述搬运方向一致的情况下的上述水系清洗材料的供应压力。

    摩擦处理方法、液晶面板的制造方法及光学膜的制造方法

    公开(公告)号:CN111522177A

    公开(公告)日:2020-08-11

    申请号:CN202010077530.1

    申请日:2020-01-30

    Abstract: 提供能实现均匀的摩擦状态并具有稳定性的摩擦处理方法、液晶面板的制造方法、光学膜的制造方法。一种摩擦处理方法,一边使具有与被摩擦物(20)的被摩擦面平行的旋转轴(12C、13C)、在圆柱状的辊芯(12A、13A)的外周具有摩擦布(12B、13B)的摩擦辊(12、13)旋转,一边使上述摩擦布(12B、13B)擦拭上述被摩擦面,在上述摩擦处理方法中,上述摩擦辊(12、13)的转速是基于上述辊芯(12A、13A)的材质而设定的。

    带取向膜的彩色滤光片基板的制造方法和液晶面板的制造方法

    公开(公告)号:CN110716339A

    公开(公告)日:2020-01-21

    申请号:CN201910620301.7

    申请日:2019-07-10

    Inventor: 谷池康司郎

    Abstract: 提供能够实现没有不均的均匀的取向限制力和成品率的带取向膜的CF基板的制造方法和液晶面板的制造方法。带取向膜的彩色滤光片基板(21A)的制造方法包含:CF形成工序,在基板上形成CF(22);PS形成工序,在基板上形成PS(26);取向膜形成工序,以覆盖CF(22)和PS的方式形成取向膜(25);以及摩擦工序,通过第1摩擦辊(32)和第2摩擦辊(33)摩擦取向膜(25),第1摩擦辊(32)向将基板推回的方向旋转,且第2摩擦辊(33)向将基板推出的方向旋转,设置在第2摩擦辊(33)的外周的第2摩擦材料(33B)由与设置在第1摩擦辊(32)的外周的第1摩擦材料(32B)相比弹力、韧性比较弱的材质形成。

    液晶面板、连成液晶面板以及液晶面板的制造方法

    公开(公告)号:CN110658654A

    公开(公告)日:2020-01-07

    申请号:CN201910567498.2

    申请日:2019-06-27

    Abstract: 本发明提供抑制显示品质的降低的液晶面板。将具备具有阵列基板侧透明基板(31)的阵列基板(30)、具有CF基板侧透明基板(21)的CF基板(20)、以及使两基板(20、30)贴合而密封液晶层(40)的实际密封部(50)的液晶面板(10)从经由虚设区域DA将多个液晶面板(10)相连而成的连成液晶面板(10M)分离。连成液晶面板(10M)以配设有虚设密封部(60)的虚设区域DA内的虚设贴附区域DR中的单元间隙(阵列基板侧母透明基板(31M)以及CF基板侧母透明基板(21M)的板面彼此的间隔)比配设有实际密封部(50)的实际贴附区域SR中的单元间隙大的方式制成(GDR>GSR)。

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