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公开(公告)号:CN101271059A
公开(公告)日:2008-09-24
申请号:CN200810036920.3
申请日:2008-04-30
Applicant: 复旦大学
Abstract: 本发明属于光学技术领域,具体为一种大场纵向表面磁光克尔效应测量装置。该装置由电磁铁、程控磁铁电源、光路系统、操作控制系统(PC机)组成,其中,光路系统依次为半导体激光器、起偏棱镜、半透半反棱镜、一检偏棱镜、一光电探测器、凸透镜、样品架、光阑、另一检偏棱镜、长焦距凸透镜和另一光电探测器组成;测量用磁场由电磁铁提供,在磁极间距为4cm时能提供最大至1.5特斯拉的磁场。本发明利用一会聚凸透镜有效地增大了光在样品表面的入射角和反射角,克服了磁极间距对激光入射角的限制,增强了纵向表面磁光克尔信号强度。本发明使得通过磁光克尔效应测量大矫顽力磁性薄膜成为可能。
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