公开(公告)号：CN118033989A

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202410328053.X

申请日：2024-03-21

Applicant: 复旦大学

Inventor： 田朋飞 ,  谭翠丽 ,  张善端

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明公开了提高曝光图形分辨率的控制方法及应用其的无掩膜光刻系统，属于无掩膜光刻技术领域。本发明提高曝光图形分辨率的控制方法，用于无掩膜光刻系统；该控制方法包括以下步骤：步骤S1、调节载物台模块的倾斜角度；步骤S2、获取样品并放置于载物台模块；步骤S3、无掩膜光刻系统在样品表面形成投影光斑；步骤S4、调节载物台模块与曝光模块的距离，在终端设备上进行图像观察与分析，直至获得样品上投影光斑的清晰图像；步骤S5、设置终端设备的控制参数对样品进行曝光，曝光后对样品进行显影获得曝光图形。本发明的控制方法通过改变载物台模块的倾斜角度，来改变样品与曝光光束的夹角，可以有效的减小曝光图形的尺寸，提高其分辨率。

公开(公告)号：CN114296327A

公开(公告)日：2022-04-08

申请号：CN202210143074.5

申请日：2022-02-16

Applicant: 复旦大学 ,  深圳凯世光研股份有限公司

Inventor： 谭翠丽 ,  李福生 ,  韩秋漪 ,  蔡志国 ,  张善端

IPC: G03F7/20 ,  G02B13/00

Abstract: 本发明公开了一种用于数字无掩模光刻机的投影物镜和光刻机。包括第一棱镜组，以及光焦度为正且焦距分别为F1、F2和F3的第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组；第一棱镜组包括一棱镜；第二透镜组包括第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜；第三透镜组包括焦距为f1第一子透镜组和焦距为f2第二子透镜组；第四透镜组包括第十一透镜；其中，0.2

公开(公告)号：CN217305708U

公开(公告)日：2022-08-26

申请号：CN202220313378.7

申请日：2022-02-16

Applicant: 复旦大学 ,  深圳凯世光研股份有限公司

Inventor： 谭翠丽 ,  李福生 ,  韩秋漪 ,  蔡志国 ,  张善端

IPC: G03F7/20 ,  G02B13/00

Abstract: 本实用新型公开了一种用于数字无掩模光刻机的投影物镜和光刻机。包括第一棱镜组，以及光焦度为正且焦距分别为F1、F2和F3的第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组；第一棱镜组包括一棱镜；第二透镜组包括第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜；第三透镜组包括焦距为f1第一子透镜组和焦距为f2第二子透镜组；第四透镜组包括第十一透镜；其中，0.2